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創造的かつ革新的プラズマCVDシステムVDS-5800SNC-L
株式会社日本生産技術研究所

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    創造的かつ革新的プラズマCVDシステムVDS-5800SNC-L

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創造的かつ革新的プラズマCVDシステムVDS-5800SNC-L 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 成膜膜種 ウエハサイズ 目的

VDS-5800SNC-L

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SiN/SiO3/SiON/a-Si/TEOS/PSG/BPSG

~200mm

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使用用途

#センサー開発 #ディスプレイ製造 #バリア膜形成 #研究開発 #光学部品製造 #絶縁膜形成 #太陽電池製造 #電子部品製造 #半導体製造 #表面改質

基板加熱温度 ℃

0 - 300 300 - 500 500 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200

制御操作

PC PLC タッチパネル

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会社概要

株式会社日本生産技術研究所は、半導体製造装置を中心に各種装置の開発・製造・販売を手掛ける企業です。 1969年に半導体用製造装置メーカーとして創業し、複数の半導体装置を開発してきたノウハウを持っています。現在では、複雑...

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