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卓上型サーマル式/プラズマ支援 原子層堆積装置 (ALD/PEALD) GEMStar XT-S/D™
株式会社エイチ・ティー・エル



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この製品について

スタンダードなサーマル式卓上型ALD装置。幅広い材料で高品質な成膜、高いステップカバレージの成膜が可能。

■特長

・小型でコンパクトな卓上タイプのALD装置です。プラズマユニットを装備、研究室での実験にまた2台目の専用ALD装置として最適です。 ・扱いやすいユーザーフレンドリーなソフトウェアにて成膜レシピの作成も簡単に行えます。 ・ロードロック、グローブボックス等多彩なオプションを準備しております。

■ALDとは

ALD (原子堆積法) では原子を一層ずつ成膜することが可能で、均一でピンホールの無い膜を成膜できます。原子層1層から数百ナノメートルまでの成膜に最適です。高アスペクト比の構造物やカーボンナノチューブなど複雑な形状にもナノラミネートコーティングが行えます。

■成膜材料

Al2O3、SiO2、HfO2、TiO2、ZnO等の酸化物、TiN、AlN、NbN等の窒化物、Pt、Ru金属単体膜など

■基板

直径4~8インチ、高さ約25mmまでの構造物、オプションにて200mm角の基板、粉体、カーボンナノチューブ (CNT) やグラフェンにも成膜可能

■チャンネル数

最多8種類のプレカーサを装備することができ、多層膜の成膜に最適

■チャンバー温度

最高300℃ (オプション450℃)

  • シリーズ

    卓上型サーマル式/プラズマ支援 原子層堆積装置 (ALD/PEALD) GEMStar XT-S/D™

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卓上型サーマル式/プラズマ支援 原子層堆積装置 (ALD/PEALD) GEMStar XT-S/D™ 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜)

GEMStar XT-S/D™ 卓上サーマルALD装置

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処理基板 ¢mm

50 - 150 150 - 250 250 - 350 350 - 700 700 - 1,400

スパッタ方向

アップ ダウン

スパッタ電源

0 - 1 1 - 5 5 - 20

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社エイチ・ティー・エルは、半導体・液晶用関連装置を中心に、装置販売や装置用ソフトウエア開発を行う会社です。 1994年に東京都立川市で設立されました。プラズマ関連装置、光3Dプリンターなど各メーカー品の販売を行う...

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  • 本社所在地: 東京都

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