Atomic Layer Deposition (原子層堆積) -原子層堆積装置

Atomic Layer Deposition (原子層堆積)
株式会社北海光電子

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この製品について

■製品概要真空チャンバー内容基板上に、次のサイクルを繰り返し行うことにより、原子層を一層ずつ積み上げます。

・ヒートコントロールにより有機金属分子を表面へ吸着
・化学反応による製膜
・パージによる余剰分子の取り除き

反応による製膜過程は、化学反応のはたらきで一原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能になり、高品質な段差被覆性 (凹凸など) の高い幕を形成することが可能です。

■特徴・排気系を工夫することで、コンタミを防ぎます。
・ヒータコントロールの均一性を高めました。
・各ソースの流れの温度をコントロールすることで、再現性を高めています。
・精密なバルブ制御で常に一定のソースを供給します。
・独自の設計によりチャンバーへの熱伝導を抑えます。
・縦型量子ドットに均一で高耐圧なAl₂O₃ゲート絶縁膜等を制御性よく簡便に成膜できます。
・三次元的な凹凸に成膜可能です。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
Atomic Layer Deposition (原子層堆積)

取扱企業
株式会社北海光電子

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Atomic Layer Deposition (原子層堆積) 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	ウエハーサイズ	排気系	到達真空度	制御系	成膜用ガス導入バルブ	パージガス導入バルブ	電源	圧縮空気導入口	基板ヒーター	その他
	原子層堆積装置	要見積もり	4インチ	ドライポンプ	5Pa以下	制御用PLC/タッチパネル	4基	1基	三相200V/50A	ф6mm	350℃MAX (ф130)	非常停止機能付

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この商品の取り扱い会社情報

株式会社北海光電子

本社所在地: 北海道

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