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Atomic Layer Deposition (原子層堆積) -原子層堆積装置
Atomic Layer Deposition (原子層堆積) -株式会社北海光電子

Atomic Layer Deposition (原子層堆積)
株式会社北海光電子



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この製品について

■製品概要

真空チャンバー内容基板上に、次のサイクルを繰り返し行うことにより、原子層を一層ずつ積み上げます。 ・ヒートコントロールにより有機金属分子を表面へ吸着 ・化学反応による製膜 ・パージによる余剰分子の取り除き 反応による製膜過程は、化学反応のはたらきで一原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能になり、高品質な段差被覆性 (凹凸など) の高い幕を形成することが可能です。

■特徴

・排気系を工夫することで、コンタミを防ぎます。 ・ヒータコントロールの均一性を高めました。 ・各ソースの流れの温度をコントロールすることで、再現性を高めています。 ・精密なバルブ制御で常に一定のソースを供給します。 ・独自の設計によりチャンバーへの熱伝導を抑えます。 ・縦型量子ドットに均一で高耐圧なAl₂O₃ゲート絶縁膜等を制御性よく簡便に成膜できます。 ・三次元的な凹凸に成膜可能です。

  • シリーズ

    Atomic Layer Deposition (原子層堆積)

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Atomic Layer Deposition (原子層堆積) 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) ウエハーサイズ 排気系 到達真空度 制御系 成膜用ガス導入バルブ パージガス導入バルブ 電源 圧縮空気導入口 基板ヒーター その他
Atomic Layer Deposition (原子層堆積) -品番-原子層堆積装置

原子層堆積装置

要見積もり

4インチ

ドライポンプ

5Pa以下

制御用PLC/タッチパネル

4基

1基

三相200V/50A

ф6mm

350℃MAX (ф130)

非常停止機能付

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使用用途

#コンフォーマルコート #パッシベーション層 #バリア層 #凹凸覆膜 #色度制御 #絶縁層 #低温処理 #硫化抑制

機能

単層ALD 複層ALD 高速ALD

温度管理

高温ALD 低温ALD

処理基板 ¢mm

50 - 150 150 - 250 250 - 350 350 - 700 700 - 1,400

スパッタ方向

アップ ダウン

スパッタ電源

0 - 1 1 - 5 5 - 20

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