半導体製造装置 高生産性連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (AMAX1200)
株式会社渡辺商行
株式会社渡辺商行の対応状況
返答率
100.0%
平均返答時間
60.5時間
この製品について
■基本情報
ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド (ガスノズル) 下を通過させることで成膜させることで、高スループット (高生産性) を実現しました。トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染 (メタルコンタミネーション) を最小限にし、また長期的に安定したプロセス性能を得ることが可能となりました。トレー交換を容易に行える自動交換機能など、メンテナンス性も良好です。■特徴
・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ・SiCトレー採用による重金属汚染 (メタルコンタミネーション) 対策 ・シンプルメンテナンス ・低CoO (低ランニングコスト)■用途
・エピタキシャル (Epitaxial) ウェハ用バックシール (NSG) ・パッシベーション膜 (保護膜・絶縁膜) (NSG)■納入実績
・国内外ウェハメーカー ・半導体デバイスメーカー ・AMAXシリーズ合計:180台以上-
シリーズ
半導体製造装置 高生産性連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (AMAX1200)
-
取扱企業
株式会社渡辺商行
-
カテゴリ
半導体製造装置注目ランキング
もっと見る
半導体製造装置の製品112点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
半導体製造装置注目ランキング (対応の早い企業)
平均返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
半導体製造装置 高生産性連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (AMAX1200) 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 装置サイズ (mm) | ガス種 | 成膜温度 |
|---|---|---|---|---|---|
|
|
AMAX1200 |
要見積もり | 2,165 (W) x 4,788 (D) x 2,250 (H) | SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) | 350~430℃ |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
