半導体製造装置高生産性連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (AMAX1200) -AMAX1200

半導体製造装置高生産性連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (AMAX1200)
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この製品について

量産向け NSG (SiO2) /PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (12インチウェハ対応) 

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜 (保護膜) ・エピタキシャル (Epitaxial) ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜 (SiO2膜) の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置 (APCVD装置) です。

■基本情報ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド (ガスノズル) 下を通過させることで成膜させることで、高スループット (高生産性) を実現しました。トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染 (メタルコンタミネーション) を最小限にし、また長期的に安定したプロセス性能を得ることが可能となりました。トレー交換を容易に行える自動交換機能など、メンテナンス性も良好です。

■特徴・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 
・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 
・SiCトレー採用による重金属汚染 (メタルコンタミネーション) 対策
・シンプルメンテナンス
・低CoO (低ランニングコスト) 

■用途・エピタキシャル (Epitaxial) ウェハ用バックシール (NSG) 
・パッシベーション膜 (保護膜・絶縁膜) (NSG) 

■納入実績・国内外ウェハメーカー
・半導体デバイスメーカー
・AMAXシリーズ合計:180台以上