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試験管・キャッパー/デキャッパーMCD-13は、マイクロチューブのスクリューキャップの取り付けと取り外しの負担を減らします。直接触る必...
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■特徴 ・円筒型単結晶Si (シリコン) スパッタリングターゲットをチョクラルスキー法 (CZ法) で製造します。 ・純度99.99％を超える高純...
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■従来型のプレーナー (平面) カソードから、ロータリーカソードへ切り替える事により、以下の利点を期待できます。 ・ターゲット使用効...
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固形材料の粉砕機能を備えた、粉砕機能付きパウダーディスペンサーPCD-1は、予め設定した分量を、高精度かつ、高い再現性で、粉砕し、そ...
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■概要 ポータブル型粉体ディスペンサーSDH-1は、予めその分注量を設定しておけば、その量並びにその倍数量の粉体を高精度かつ高い再現性...
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■従来型のプレーナー (平面) カソードから、ロータリーカソードへ切り替える事により、以下の利点を期待できます。 ・ターゲット使用効...
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■従来型のプレーナー (平面) カソードから、ロータリーカソードへ切り替える事により、以下の利点を期待できます。 ・ターゲット使用効...
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「EMICON SA-HIPIMS」は、特にHIPIMSプロセスに焦点を置いた「EMICON SA」のアップグレードモデルです。成膜中に、プラズマのスペクトル...
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■品名 シリコン (Si) パウダー ■製造者 中国・Fuzhou Yinrich Metallurgical Materials Co., Ltd ■用途1 スパッタリングターゲット原...
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■概要 ロボットモジュールに組み込まれた粉末ディスペンサーSDB-1は、ラックにセットされたマイクロチューブやバイアルへの自動分注を行...
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■従来型のプレーナー (平面) カソードから、ロータリーカソードへ切り替える事により、以下の利点を期待できます。 ・ターゲット使用効...
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■従来型のプレーナー (平面) カソードから、ロータリーカソードへ切り替える事により、以下の利点を期待できます。 ・ターゲット使用効...
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■特徴 ・導電性素材のシート抵抗を測定します ・非接触型で 対象物を傷つけずに測定が可能 ・0.005 Ohms/sq から 100,000 Ohms/sqの間で...
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■従来型のプレーナー (平面) カソードから、ロータリーカソードへ切り替える事により、以下の利点を期待できます。 ・ターゲット使用効...
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■特徴 ・パワーレベルに比例したイオンエネルギーの上昇が無い為、基板ダメージが少ない ・適用真空範囲が、1ｘ10-4から1ｘ10-1 mbarと...
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■概要 卓上型のソリッド・ディスペンサーSDB-1Cは、SDB-1に重量スケールが組み込まれた進化形であり、体積基準の容量式モードに加え、重...
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■特徴 ・SCI製ロータリーカソードで多数の実績 ・成膜レートを最大3倍に向上させる事も可能 (例：SiO2のリアクティブ成膜) ・200nmから...
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■従来型のプレーナー (平面) カソードから、ロータリーカソードへ切り替える事により、以下の利点を期待できます。 ・ターゲット使用効...
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このパルスジェネレータは、左右対称なMFACカレントの置き換え、そして、左右非対称な矩形パルスを形成するバイポーラパルス、その両方...
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■特徴 ・径13mmのマイクロチューブへのスクリューキャップの取り付けを自動化します。特許取得済みです。 ・径13mm以外にも、様々なキャ...
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ADL社のDC電源と組み合わせることにより、SD151/SD301及びSD351は、より早い放電の為に、リバースパルスを伴ったユニポーラパルスを生成...
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MF/バイポーラパルスジェネレータHXB900からHXB1400は、一つのキャビネットで、大きな出力、コンパクトデザイン、及び高速アーク制御を...
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イオンソースの為に、特別に設計された電源です。リクエストベースで、仕様以外の電圧出力や、容量をカスタマイズ可能です。すべてのモ...
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■特徴 ・デモ機のお貸出し可能です。お気軽にお問い合わせください。 ・真空中でのインライン測定、大気中での卓上測定、いずれも可能で...
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ハイパワーと、容易な操作性、そして安定したプロセスを得ようとした場合、HXD901-HXD1401を利用することが、最も簡単な解決策です。モ...
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このパルスジェネレータは、ADL社製DC電源との連携により、ユニポーラパルスを発生させます。ADL社パルスジェネレータは、20kHz固定とな...
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高精度かつ再現性高く、予め設定した分注量 (およびその倍数量) の粉末を分注することができます。実験室での吐出ソリューションは、実...
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