株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパンの製品が99件登録されています。
スパッタリングコンポーネンツジャパンの製品が8カテゴリに登録されています。
株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
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イオンソースの為に、特別に設計された電源です。リクエストベースで、仕様以外の電圧出力や、容量をカスタマイズ可能です。すべてのモ...
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株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
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GSWシリーズは、並列接続で、出力は最大240kWまで拡張可能です。特殊な回路設計により、「マスターースレイブ」の仲介システムは別途不...
10種類の品番
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ADL社のDC電源と組み合わせることにより、SD151/SD301及びSD351は、より早い放電の為に、リバースパルスを伴ったユニポーラパルスを生成...
4種類の品番
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幅218mm、高さ222mmという、非常に小型な設計は、特にキャビネットを必要とせず、直接装置に組み込む選択も可能です。HXシリーズは、マ...
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ドイツ・CCR社製、ICP方式のプラズマソースです。ヨーロッパのほぼすべての装置メーカーで、そのPVDアシスト用、またはPECVD用のプラズ...
7種類の品番
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「EMICON SA-HIPIMS」は、特にHIPIMSプロセスに焦点を置いた「EMICON SA」のアップグレードモデルです。成膜中に、プラズマのスペクトル...
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MF/バイポーラパルスジェネレータHXB900からHXB1400は、一つのキャビネットで、大きな出力、コンパクトデザイン、及び高速アーク制御を...
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■概要 ロボットモジュールに組み込まれた粉末ディスペンサーSDB-1は、ラックにセットされたマイクロチューブやバイアルへの自動分注を行...
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■従来型のプレーナー (平面) カソードから、ロータリーカソードへ切り替える事により、以下の利点を期待できます。 ・ターゲット使用効...
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最新の閲覧: 20時間前
ハイパワーと、容易な操作性、そして安定したプロセスを得ようとした場合、HXD901-HXD1401を利用することが、最も簡単な解決策です。モ...
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このパルスジェネレータは、左右対称なMFACカレントの置き換え、そして、左右非対称な矩形パルスを形成するバイポーラパルス、その両方...
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最新の閲覧: 16時間前
試験管・キャッパー/デキャッパーMCD-13は、マイクロチューブのスクリューキャップの取り付けと取り外しの負担を減らします。直接触る必...
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非リアクティブプロセスにおいて、HX900 からHX1400のモデルは、非常に信頼性が高く、そして経済的なパワーサプライです。ユーザーの様...
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HXFは、特にセンシティブでダメージを受けやすい成膜向けに開発されました。その完全自動なアーク制御システムは、0.3mj/kW以下にそのア...
6種類の品番
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高精度かつ再現性高く、予め設定した分注量 (およびその倍数量) の粉末を分注することができます。実験室での吐出ソリューションは、実...
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最新の閲覧: 3時間前
■特徴 ・径13mmのマイクロチューブへのスクリューキャップの取り付けを自動化します。特許取得済みです。 ・径13mm以外にも、様々なキャ...
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■特徴 ・導電性素材のシート抵抗を測定します ・非接触型で 対象物を傷つけずに測定が可能 ・0.005 Ohms/sq から 100,000 Ohms/sqの間で...
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固形材料の粉砕機能を備えた、粉砕機能付きパウダーディスペンサーPCD-1は、予め設定した分量を、高精度かつ、高い再現性で、粉砕し、そ...
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最新の閲覧: 13時間前
■特徴 ・円筒型単結晶Si (シリコン) スパッタリングターゲットをチョクラルスキー法 (CZ法) で製造します。 ・純度99.99%を超える高純...
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■従来型のプレーナー (平面) カソードから、ロータリーカソードへ切り替える事により、以下の利点を期待できます。 ・ターゲット使用効...
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■従来型のプレーナー (平面) カソードから、ロータリーカソードへ切り替える事により、以下の利点を期待できます。 ・ターゲット使用効...
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このパルスジェネレータは、ADL社製DC電源との連携により、ユニポーラパルスを発生させます。ADL社パルスジェネレータは、20kHz固定とな...
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■特徴 ・デモ機のお貸出し可能です。お気軽にお問い合わせください。 ・真空中でのインライン測定、大気中での卓上測定、いずれも可能で...
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■従来型のプレーナー (平面) カソードから、ロータリーカソードへ切り替える事により、以下の利点を期待できます。 ・ターゲット使用効...
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最新の閲覧: 5時間前
■特徴 ・パワーレベルに比例したイオンエネルギーの上昇が無い為、基板ダメージが少ない ・適用真空範囲が、1x10-4から1x10-1 mbarと...
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■品名 シリコン (Si) パウダー ■製造者 中国・Fuzhou Yinrich Metallurgical Materials Co., Ltd ■用途1 スパッタリングターゲット原...
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■特徴 ・SCI製ロータリーカソードで多数の実績 ・成膜レートを最大3倍に向上させる事も可能 (例:SiO2のリアクティブ成膜) ・200nmから...
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■従来型のプレーナー (平面) カソードから、ロータリーカソードへ切り替える事により、以下の利点を期待できます。 ・ターゲット使用効...
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最新の閲覧: 19時間前
■従来型のプレーナー (平面) カソードから、ロータリーカソードへ切り替える事により、以下の利点を期待できます。 ・ターゲット使用効...
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■概要 ポータブル型粉体ディスペンサーSDH-1は、予めその分注量を設定しておけば、その量並びにその倍数量の粉体を高精度かつ高い再現性...
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注目ランキングは、2024年8月の株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパンのMetoreeページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の各ページでの全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。また、製品はMetoreeに登録されているもののみが表示されています。