株式会社シンクロン

■概要 光学薄膜から金属膜まで、成膜に関する幅広い要求に対応できる、汎用性の高い蒸着装置です。高水準の性能や量産性はそのままに、...

• 加工・工作機器

• 蒸着装置

■概要 独自開発のRAS方式により、優れた生産性・安定性を発揮。シンクロンが独自に開発したRAS (RadicalAssistedSputtering) 方式により...

• 加工・工作機器

• スパッタリング装置

■概要 RASで実現する広視野角で低反射な反射防止膜。RASの成膜プロセスとウェットプロセスを用い、ナノスケールオーダーの表面形状や膜...

• 光学部品

• 反射防止膜

■特徴 ・高精度な結晶性薄膜の成膜が低温プロセスで可能 ・成膜条件や材料に応じた最適なカソード位置・角度での成膜が可能 ・CtoC機能...

• 加工・工作機器

• スパッタリング装置

■概要 タッチパネルの指紋付着防止等、防汚膜の成膜に活用されています。 ■用途 表面の制御 ■特徴 耐スクラッチ性に優れたAFS膜の成膜...

• 加工・工作機器

• 蒸着装置

■概要 RASシリーズ史上最高の生産性を実現することを目的に開発された装置です。 ドラムの大型化と装置のコンパクト化の両立を実現させ...

• 加工・工作機器

• スパッタリング装置

■概要 半導体・電子市場に適したCtoC対応クラスター型RAS方式成膜装置 ■特徴 ・ロードロック構造により高スループットで誘電体成膜を実...

• 加工・工作機器

• 成膜装置

■概要 蒸着室を成膜のたびに大気にさらすことなく、成膜プロセス室を常に高真空に保つことが可能。そのため、屈折率が安定し、高品位な...

• 加工・工作機器

• 蒸着装置

■用途 電子、電気の制御 ■特徴 ・低抵抗な電極が成膜できます ・誘電体と金属の多層構造が可能です

• 加工・工作機器

• スパッタリング装置

■用途 光学 ■特徴 ・分割ドームを用いて、一度に大量のレンズを成膜することができます ・低温成膜に最適な基板加熱方式を採用するとと...

• 加工・工作機器

• 蒸着装置

■用途 光学 ■概要 TiO2/SiO2282層33μmの多層膜において、ラフネスを抑え「低Hazeを実現」。 ■特徴 ・低散乱 (低Haze) な超多層膜を実...

• 加工・工作機器

• 蒸着装置

■概要 眼鏡レンズの反射防止膜に特化した専用機 ■用途 光学 ■特徴 ・眼鏡レンズや、曲率のあるレンズ全面に均一な成膜が可能です ・無...

• 加工・工作機器

• 蒸着装置

■概要 各種接続端子、電極等の金属薄膜を形成するバッチ式蒸着装置です。金属薄膜を安定的に量産することができます。 ■主な用途 ・電...

• 加工・工作機器

• 蒸着装置

■概要 安定的に誘電体薄膜を形成することが可能。長年培われた当社技術により安定的に誘電体薄膜を形成することができます。SiO2、SiN等...

• 加工・工作機器

• スパッタリング装置

■用途 電子、電気の制御 ■概要 電子デバイスの電極用成膜装置として広く使用されています。 特にSAWフィルターのIDT (InterdigitalTran...

• 加工・工作機器

• 蒸着装置

■用途 電子、電気の制御 ■概要 独自開発したプログラマブルデジタル制御器のもと、多元スパッタ源を複合的に制御できるDPDRS (Digitall...

• 加工・工作機器

• スパッタリング装置

■用途 電子、電気の制御 ■概要 誘電体多層膜を主とした電子デバイス市場向けに高機能化。当社RAS方式を電子デバイス向けに発展させ、高...

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• スパッタリング装置