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■単結晶SiCの製品を提供しております。 ・2～4インチ4H/6H-P SiCウェーハ ・2～4インチ3C SiCウェーハ ・4～8インチ4H-N SiCウェーハ ・...
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酸化ガリウムは、高耐圧および低オン抵抗特性を活かし、パワーエレクトロニクスデバイスとして幅広く応用されています。電気自動車、太...
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当社はGaN（窒化ガリウム）基板、GaNテンプレート、Power用エピウェーハ、RGB Micro LED Epiウェーハ、Hybrid Integrated RGB Micro LED...
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■セラミックコーティング ・高耐熱CCSコーティング150℃→180℃、コーティング厚さ 2～3 μm ・低湿度CCSコーティング 800ppm→＜500ppm、コ...
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酸化ガリウムは、高耐圧および低オン抵抗特性を活かし、パワーエレクトロニクスデバイスとして幅広く応用されています。電気自動車、太...
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酸化ガリウムは、高耐圧および低オン抵抗特性を活かし、パワーエレクトロニクスデバイスとして幅広く応用されています。電気自動車、太...
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独創性を育み、継続的改善に努め、より完璧を追求する。
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コントロール可能な造粒技術と革新的な被覆技術を基盤に、研究開発とエンジニアリングの障壁を次々と突破し、低膨張性能を兼ね備えた高...
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シリコンリングはシリコンで作られたリング状の製品です。
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複合ウェーハは、2種類以上の異なる材料を特殊な工程で組み合わせて作られる高性能な基板材料です。
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ジルコニア（ZrO₂）セラミックスボール ■特徴 ・高強度、高破壊靱性。 ・熱的特性に優れる。 ・耐薬品性。 ・熱電度率が低く断熱効果が...
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CVDダイヤモンド基板（Chemical Vapor Depositionダイヤモンド基板）は、化学気相成長（CVD）法を用いて製造されるダイヤモンドの薄膜を...
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第一款人造石墨FSN-1を起点に、自社の造粒技術、コーティング技術、熱処理技術などの技術プラットフォームを継続的に最適化・アップグレ...
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■性能特徴 ・優れた清潔度 ・均一性が優れている ・化学的に安定した特性 ・力学的特性が優れている ・熱安定性が良好 ・安全性能が高い...
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単結晶SiCの製品を提供しております。 2～4インチ4H/6H-P SiCウェーハ 2～4インチ3C SiCウェーハ 4～8インチ4H-N SiCウェーハ 4～8イン...
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リチウム正極集電体に使用されているアルミ箔を提供しております。 厚みは10 μmから16 μmまで対応可能です。 SPECについてはお客様とご...
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■ポリマーコーティング ・水系PVDF、低コスト
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複合ウェーハは、2種類以上の異なる材料を特殊な工程で組み合わせて作られる高性能な基板材料です。
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| 郵便番号 | 〒115-0045 |
|---|---|
| 本社住所 | 東京都北区赤羽2-69-2千秀ビル6F |
| 創業年 | 2011年 |
| 資本金 | 500,000円 |
| 従業員数 | 159人 |
| 会社区分 | 商社・代理店 |
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