真空デバイスのスパッタリング装置
株式会社真空デバイスのスパッタリング装置7製品が登録されています。 真空デバイスのその他の取扱カテゴリーには、蒸着装置などがあります。
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7 点の製品がみつかりました
株式会社真空デバイス
スパッタ装置 小型マグネトロンスパッタ装置 MSP－mini
270人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用した...
株式会社真空デバイス
スパッタ装置 電子顕微鏡向け全自動マグネトロンスパッタ装置 MSP-1S
310人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用した...
株式会社真空デバイス
スパッタ装置 多目的簡易操作型マグネトロンスパッタ成膜装置 MSP-40T
250人以上が見ています
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用した...
株式会社真空デバイス
スパッタ装置 全自動機能付き貴金属コーター MSP-20-UM
220人以上が見ています
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用した...
株式会社真空デバイス
スパッタ装置 4インチターゲット全自動機能付き貴金属コーター MSP-20-MT
200人以上が見ています
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ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用した...
株式会社真空デバイス
スパッタ装置 FE-SEM 向けタングステンコーター MSP-20-TK
280人以上が見ています
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ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用した...
株式会社真空デバイス
スパッタ装置 8インチターゲット貴金属コーター MSP-8in
190人以上が見ています
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ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用した...
