全てのカテゴリ

閲覧履歴

真空デバイスのスパッタリング装置

7 点の製品がみつかりました

7 点の製品

株式会社真空デバイス

スパッタ装置 電子顕微鏡向け全自動マグネトロンスパッタ装置 MSP-1S

370人以上が見ています

最新の閲覧: 10時間前

100.0% 返答率

40.2時間 返答時間

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用した...


株式会社真空デバイス

スパッタ装置 4インチターゲット全自動機能付き貴金属コーター MSP-20-MT

230人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

40.2時間 返答時間

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用した...


株式会社真空デバイス

スパッタ装置 FE-SEM 向けタングステンコーター MSP-20-TK

340人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

40.2時間 返答時間

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用した...


株式会社真空デバイス

スパッタ装置 全自動機能付き貴金属コーター MSP-20-UM

260人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

40.2時間 返答時間

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用した...


株式会社真空デバイス

スパッタ装置 多目的簡易操作型マグネトロンスパッタ成膜装置 MSP-40T

290人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

100.0% 返答率

40.2時間 返答時間

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用した...


株式会社真空デバイス

スパッタ装置 8インチターゲット貴金属コーター MSP-8in

220人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

100.0% 返答率

40.2時間 返答時間

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用した...


株式会社真空デバイス

スパッタ装置 小型マグネトロンスパッタ装置 MSP-mini

320人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

40.2時間 返答時間

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用した...


🏆 注目ランキング

真空デバイスのスパッタリング装置7製品中の注目ランキング

電話番号不要

電話がかかってくる心配はありません

まとめて見積もり

何度も同じ内容を記入する必要はありません

返答率96%以上

96%以上の方が返答を受け取っています

スパッタリング装置の関連製品

スパッタリング装置をもっと見る
Copyright © 2024 Metoree