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研究開発 絶縁膜形成

MPSのプラズマCVD装置

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1 点の製品

株式会社MPS

RFプラズマCVD装置

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最新の閲覧: 8時間前

100.0% 返答率

57.6時間 返答時間

■概要 RF (13.56MHz) を使用したプラズマCVD装置です。絶縁物でもDLCの成膜が可能です。


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