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MPSのプラズマCVD装置

3 点の製品がみつかりました

3 点の製品

株式会社MPS

RFプラズマCVD装置

160人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

86.1時間 返答時間

■概要 RF (13.56MHz) を使用したプラズマCVD装置です。絶縁物でもDLCの成膜が可能です。


株式会社MPS

熱+プラズマCVD装置

140人以上が見ています

最新の閲覧: 11時間前

100.0% 返答率

86.1時間 返答時間

■概要 窒化物を作るための実験装置です。原料は塩化物とアンモニアを使用します。成膜はハロゲンランプ加熱による熱CVDと誘導結合プラズマによるプラズマCVD...


株式会社MPS

高圧パルスプラズマCVD装置

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最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

86.1時間 返答時間

■概要 直流の高電圧パルス放電を利用したダイヤモンドライクカーボン用プラズマCVD装置です。原料ガスはメタンまたはアセチレンを選択できます。


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