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半導体製造装置 洗浄装置 枚葉式エッチング・ 洗浄システム  CENOTE ®-CENOTE ®
半導体製造装置 洗浄装置 枚葉式エッチング・ 洗浄システム  CENOTE ®-タツモ株式会社

半導体製造装置 洗浄装置 枚葉式エッチング・ 洗浄システム CENOTE ®
タツモ株式会社



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この製品について

枚葉式洗浄システムCENOTE ®は、マルチカップ方式を採用した多機能枚葉式洗浄装置です。クリーンな液体をウェハ表面に連続供給すると同時に、薬液の種類、混合比率、流量、温度を正確にコントロールすることにより高清浄度洗浄、精密エッチングを実現します。

■製品特徴

・プラットホーム ウェハの両面同時処理が可能であるため、ウェハ裏面の汚染を防止でき、ウェハ裏面の後処理を省略できます。マルチカップ方式及び 各カップにおける連続数次処理により、ハイスループットを実現します。コストパフォーマンスに優れた装置です。 ・プロセスユニット 酸系薬液用処理モジュール、アルカリ系薬液用処理モジュール、有機系薬液用処理モジュールを用意し、お客様ニーズに合わせ た装置構成にも対応可能です。 2流体タイプのスプレーノズルや超音波スプレーノズルなども搭載可能であり、8および12""の口径に対応いたします。 ・操作性 視認性に優れたインターフェースを採用しています。

  • シリーズ

    半導体製造装置 洗浄装置 枚葉式エッチング・ 洗浄システム CENOTE ®

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半導体製造装置 洗浄装置 枚葉式エッチング・ 洗浄システム CENOTE ® 品番1件

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商品画像 品番 価格 (税抜) 適用ワーク
半導体製造装置 洗浄装置 枚葉式エッチング・ 洗浄システム  CENOTE ®-品番-CENOTE ®

CENOTE ®

要見積もり

Φ200 & 300mmウェーハ

フィルターに該当する他製品

エッチング装置の中で同じ条件の製品
対応ウェーハサイズ: 200 - 250mm

フィルターから探す

エッチング装置をフィルターから探すことができます

ウェハサイズ mm

50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 350

プラズマソース

CCP型 ICP RF プラズマ マイクロ波

圧力制御

APC制御 FAPC

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

タツモ株式会社は、半導体製造装置や液晶製造装置などを取り扱っている企業です。 電子機能部品の製造などを目的として1972年に会社を設立しています。設立以降、1980年に全自動レジスト塗布装置、1987年にウェーハマーキ...

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  • 本社所在地: 岡山県
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