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この製品について

■概要

光通信用光導波路をアプリケーションとした薄膜SOIウェーハ製造を承ります。埋込酸化膜は3〜5μm、光導波路用薄膜活性層は100〜500nmを形成いたします。 データ通信が加速度的に増加しているなかでデータを高速処理するため、半導体の微細化を進めるには電気が熱を持ち回路がショートする可能性が高まります。データを運搬する電気を光に置き換えることにより、光は熱を持たずまた電気信号より高速にデータを処理することが可能である次世代光半導体の基板として光導波路用SOIウェーハを提供いたします。

  • シリーズ

    光通信用SOIウェーハ

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