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3D NANDフラッシュメモリー用のテストパターンウェーハ
株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ



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この製品について

■概要

半導体分野の先端技術である3D NAND Flashメモリーのテストパターンウェーハを開発しております。300mmシリコンウェーハ上にSiO2膜とSiN膜を交互に積み重ね64対 (128層) の積層成膜加工をし、さらにその上に酸化膜とエッチング用ハードマスクACL (アモルファスカーボン) 膜を成膜しSiON膜を介してレジストを塗布してパターンニングしたテストウェーハです。

  • シリーズ

    3D NANDフラッシュメモリー用のテストパターンウェーハ

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3D NANDフラッシュメモリー用のテストパターンウェーハ 品番1件

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