3D NANDフラッシュメモリー用のテストパターンウェーハ
株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ
この製品について
■概要
半導体分野の先端技術である3D NAND Flashメモリーのテストパターンウェーハを開発しております。300mmシリコンウェーハ上にSiO2膜とSiN膜を交互に積み重ね64対 (128層) の積層成膜加工をし、さらにその上に酸化膜とエッチング用ハードマスクACL (アモルファスカーボン) 膜を成膜しSiON膜を介してレジストを塗布してパターンニングしたテストウェーハです。-
シリーズ
3D NANDフラッシュメモリー用のテストパターンウェーハ
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取扱企業
株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ
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カテゴリ
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3D NANDフラッシュメモリー用のテストパターンウェーハ 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) |
|---|---|---|
3D NAND Flashメモリー用テストウェーハ |
要見積もり |
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この商品の取り扱い会社情報
- 本社所在地: 東京都