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プラズマCVDシステム PlasmaPro 100 PECVD-PlasmaPro 100 PECVD
プラズマCVDシステム PlasmaPro 100 PECVD-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

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この製品について

PlasmaPro 100 PECVD システムは、屈折率、応力、電気特性、ウェットケミカルエッチング速度などの膜特性を制御し、優れた均一性を持つ高品質な薄膜製造用の特別に設計されたシステムです。当社の最先端のプラズマ CVD システムは、絶縁膜のパッシベーション、炭化ケイ素、アモルファスシリコン、ハードマスク蒸着、反射防止コーティングに適しています。

■特徴

・高品質、高スループット、優れた均質性の成膜が可能 ・屈折率や応力の高い制御 ・高濃度プラズマと低圧におけるデポジション ・最大 200 mm までのウェハに対応 ・異なるサイズのウェハの迅速な交換が可能 ・低所有コストと保守性を両立 ・抵抗加熱電極により、最大400℃または1200℃まで可能 ・その場チェンバー洗浄および終端決定が可能 ・反応種を基板に供給し、チャンバー内を均一な高伝導経路で通過させるため、低圧を維持したまま大流量のガスを使用できます。 ・最適なガス供給が可能なRFパワーシャワーヘッドにより、均一なプラズマ処理を実現し、LF/RFスイッチングにより膜応力の精密制御が可能。 ・高いポンプ容量で広範囲なプロセス圧力に対応

  • シリーズ

    プラズマCVDシステム PlasmaPro 100 PECVD

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