プラズマCVDシステム PlasmaPro 100 PECVD
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
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この製品について
■特徴
・高品質、高スループット、優れた均質性の成膜が可能 ・屈折率や応力の高い制御 ・高濃度プラズマと低圧におけるデポジション ・最大 200 mm までのウェハに対応 ・異なるサイズのウェハの迅速な交換が可能 ・低所有コストと保守性を両立 ・抵抗加熱電極により、最大400℃または1200℃まで可能 ・その場チェンバー洗浄および終端決定が可能 ・反応種を基板に供給し、チャンバー内を均一な高伝導経路で通過させるため、低圧を維持したまま大流量のガスを使用できます。 ・最適なガス供給が可能なRFパワーシャワーヘッドにより、均一なプラズマ処理を実現し、LF/RFスイッチングにより膜応力の精密制御が可能。 ・高いポンプ容量で広範囲なプロセス圧力に対応-
シリーズ
プラズマCVDシステム PlasmaPro 100 PECVD
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プラズマCVDシステム PlasmaPro 100 PECVD 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) |
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PlasmaPro 100 PECVD |
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