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ナノ材料の高い成膜特性を実現 PlasmaPro 100 Nano CVD-PlasmaPro 100 Nano CVD
ナノ材料の高い成膜特性を実現 PlasmaPro 100 Nano CVD-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

ナノ材料の高い成膜特性を実現 PlasmaPro 100 Nano CVD
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

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この製品について

化学気相堆積 (CVD) やプラズマCVD (PECVD) は、1Dナノ材料や 2Dナノ材料の成長、ヘテロ接合の形成に適したツールです。PlasmaPro 100 Nano (以前の名称は Nanofab) は、1,200℃までの温度制御、in-situ 触媒活性化、厳格なプロセス制御によりナノ材料の高い成膜特性を実現します。

■特徴

・最高1,200℃までの柔軟な温度制御による、優れた均質性 ・オプションの 700℃、800℃、1,200℃のテーブルヒーター ・サンプルサイズは最大200mm ・真空ロードロック-迅速なサンプル交換 ・シャワーヘッドを使用した冷却壁デザインにより、均一な原料プリカーサー供給が実現 ・MoS2、MoSe2、そして他のTMDC (遷移金属ダイカルコゲナイド) のデポジション向け、オプションの液体/固体原料供給システム

  • シリーズ

    ナノ材料の高い成膜特性を実現 PlasmaPro 100 Nano CVD

企業レビュー

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2025年3月25日にレビュー

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ナノ材料の高い成膜特性を実現 PlasmaPro 100 Nano CVD 品番1件

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PlasmaPro 100 Nano CVD

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使用用途

#センサー開発 #ディスプレイ製造 #バリア膜形成 #研究開発 #光学部品製造 #絶縁膜形成 #太陽電池製造 #電子部品製造 #半導体製造 #表面改質

プラズマ励起方式

容量結合型 誘導結合型 マイクロ波型 パルス電源型

反応場構成

リモート型 平行平板型 シャワーヘッド型 チャンバー分割型

基板処理方式

枚葉式 バッチ式 インライン連続式 立体部品支持式

基板加熱温度 ℃

0 - 300 300 - 500 500 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200

制御操作

PC PLC タッチパネル

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社は科学研究機器、半導体プロセス装置、分析機器の輸入販売・修理・買取を行っている企業です。 1991年にイギリスのオックスフォード・インストゥルメンツの日本法人として設立されま...

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  • 本社所在地: 東京都
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