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ナノ材料の高い成膜特性を実現 PlasmaPro 100 Nano CVD-PlasmaPro 100 Nano CVD
ナノ材料の高い成膜特性を実現 PlasmaPro 100 Nano CVD-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

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この製品について

化学気相堆積 (CVD) やプラズマCVD (PECVD) は、1Dナノ材料や 2Dナノ材料の成長、ヘテロ接合の形成に適したツールです。PlasmaPro 100 Nano (以前の名称は Nanofab) は、1,200℃までの温度制御、in-situ 触媒活性化、厳格なプロセス制御によりナノ材料の高い成膜特性を実現します。

■特徴

・最高1,200℃までの柔軟な温度制御による、優れた均質性 ・オプションの 700℃、800℃、1,200℃のテーブルヒーター ・サンプルサイズは最大200mm ・真空ロードロック－迅速なサンプル交換 ・シャワーヘッドを使用した冷却壁デザインにより、均一な原料プリカーサー供給が実現 ・MoS2、MoSe2、そして他のTMDC (遷移金属ダイカルコゲナイド) のデポジション向け、オプションの液体/固体原料供給システム

  • シリーズ

    ナノ材料の高い成膜特性を実現 PlasmaPro 100 Nano CVD

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2025年3月25日にレビュー済み

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ナノ材料の高い成膜特性を実現 PlasmaPro 100 Nano CVD 品番1件

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ナノ材料の高い成膜特性を実現 PlasmaPro 100 Nano CVD-品番-PlasmaPro 100 Nano CVD

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オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社は科学研究機器、半導体プロセス装置、分析機器の輸入販売・修理・買取を行っている企業です。 1991年にイギリスのオックスフォード・インストゥルメンツの日本法人として設立されま...

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