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レーザーCVD装置 CL-12000-CL-12000
レーザーCVD装置 CL-12000-株式会社サンバック

レーザーCVD装置 CL-12000
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レーザーCVD装置CL-12000は高出力エキシマレーザーを使って、ヒーターの埋め込まれた100mm角の基板ホルダー上に成膜するレーザーCVD装置です。基板は、X-Yに連動して動かすことが出来ます。

  • シリーズ

    レーザーCVD装置 CL-12000

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レーザーCVD装置 CL-12000 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 膜種 炉体サイズ 炉体材質 基板形状 到達圧力 排気速度 加熱温度 圧力コントロール ガス種 電源 真空排気系 真空計 ユーティリティ 電気 ユーティリティ 冷却水 ユーティリティ 計装エアー
レーザーCVD装置 CL-12000-品番-CL-12000

CL-12000

要見積もり

C

φ440mm×600mm

SUS316

4インチ 1枚

×10-4Pa台※常温・無負荷・脱ガス時

×10-4Pa台迄10分以内※常温・無負荷・脱ガス時

600℃

自動

CH4/C2H2/C2H6/N2

高出力レーザー

油回転ポンプ：375L/min
メカニカルブースターポンプ：100m3/h

ピラニ真空計/バラトロン真空計

AC200V三相60kVA

50L/min以上0.1MPa以上0.15MPa以下25℃以下循環

0.5MPa以上

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CVD装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#半導体製造 #太陽電池製造 #MEMS製造 #ナノ材料生成 #ダイヤモンド生成 #絶縁膜形成 #保護膜形成 #透明導電膜形成 #カーボンナノチューブ #高硬度薄膜 #センサー #電子デバイス

成膜方式

熱CVD APCVD PECVD MOCVD HWCVD

反応器構造

縦型バッチ 横型バッチ シングルウェハ シャワーヘッド型 回転円盤型

加熱方式

ホットウォール コールドウォール ランプ加熱 誘導加熱 マイクロ波加熱 抵抗加熱

原料供給方式

直接ガス供給 液体気化供給 固体昇華供給 バブリング供給

成膜温度 ℃

100 - 300 300 - 500 500 - 1,200

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会社概要

株式会社サンバックは真空装置のメーカーです。...

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