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ICPCVDプロセスモジュール PlasmaPro 100 ICPCVD-PlasmaPro 100 ICPCVD
ICPCVDプロセスモジュール PlasmaPro 100 ICPCVD-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

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この製品について

ICPCVD (誘導結合プラズマ) プロセスモジュールは、低温で高品質の薄膜を製造するように設計され、高密度リモートプラズマによりダメージの少ない優れた薄膜特性を実現します。

■特徴

・優れた均質性、高スループット、高精度のプロセス ・高品質の薄膜 ・広い電極温度範囲 ・最大200mmまでの、全てのウェハに適合 ・異なるサイズのウェハの迅速な交換 ・所有コストが低く、保守が簡単 ・コンパクト、柔軟なレイアウトに対応 ・抵抗加熱電極により、最大400℃または1200℃まで可能 ・In situ チャンバークリーニング、エンドポイント検出が可能 ・柔軟な気相供給モジュールを装備し、TTIPを使用したTiO2やTEOSを使用したSiO2など、液体プリカーサーを用いた薄膜デポジションが可能

  • シリーズ

    ICPCVDプロセスモジュール PlasmaPro 100 ICPCVD

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ICPCVDプロセスモジュール PlasmaPro 100 ICPCVD 品番1件

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オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社は科学研究機器、半導体プロセス装置、分析機器の輸入販売・修理・買取を行っている企業です。 1991年にイギリスのオックスフォード・インストゥルメンツの日本法人として設立されま...

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