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サーマルCVD装置 CT-5500-CT-5500
サーマルCVD装置 CT-5500-株式会社サンバック

サーマルCVD装置 CT-5500
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この製品について

サーマルCVD装置CT-5500はポリSi (第1炉) 、SiO、PSG、BSG (第2炉) 、Si3N4 (第3炉) をコーティングできます。各炉は、それぞれ独立したCVD炉なので、異質物の混入がありません。1台で3台分の働きをする小ロット生産用CVDです。

  • シリーズ

    サーマルCVD装置 CT-5500

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サーマルCVD装置 CT-5500 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 膜種 炉体サイズ 炉体材質 基板形状 到達圧力 排気速度 加熱温度 圧力コントロール ガス種 真空排気系 真空計 ユーティリティ 電気 ユーティリティ 冷却水 ユーティリティ 計装エアー
サーマルCVD装置 CT-5500-品番-CT-5500

CT-5500

要見積もり

ポリSi/Si3N4/SiO2/PSG/BSG

φ154mm×1,150mm

石英

4インチ 10枚

×10-2Pa台※常温・無負荷・脱ガス時

×10-1Pa台迄3分以内※常温・無負荷・脱ガス時

1,000℃

自動

SiH4/O2/NH3/PH3/B2H6/H2/N2

油回転ポンプ：375L/min
メカニカルブースターポンプ：100m3/h

ピラニ真空計/バラトロン真空計

AC200V三相40kVA

25L/min以上0.1MPa以上0.15MPa以下25℃以下循環

0.5MPa以上

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CVD装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#半導体製造 #太陽電池製造 #MEMS製造 #ナノ材料生成 #ダイヤモンド生成 #絶縁膜形成 #保護膜形成 #透明導電膜形成 #カーボンナノチューブ #高硬度薄膜 #センサー #電子デバイス

成膜方式

熱CVD APCVD PECVD MOCVD HWCVD

反応器構造

縦型バッチ 横型バッチ シングルウェハ シャワーヘッド型 回転円盤型

加熱方式

ホットウォール コールドウォール ランプ加熱 誘導加熱 マイクロ波加熱 抵抗加熱

原料供給方式

直接ガス供給 液体気化供給 固体昇華供給 バブリング供給

成膜温度 ℃

100 - 300 300 - 500 500 - 1,200

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会社概要

株式会社サンバックは真空装置のメーカーです。...

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