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Nanofurnace 卓上型 熱CVD 装置 Model. BWS-NANO-BWS-NANO
Nanofurnace 卓上型 熱CVD 装置 Model. BWS-NANO-テルモセラ・ジャパン株式会社

Nanofurnace 卓上型 熱CVD 装置 Model. BWS-NANO
テルモセラ・ジャパン株式会社



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この製品について

■用途

・グラフェン合成 ・カーボンナノチューブ ・ZnO ナノワイヤー ・ナノダイヤモンド ・絶縁膜・保護膜 (Sic, TiN 他) ・その他熱 CVD 用途全般

■特徴

・ホットウォール式 反応管内を均一に加熱 ・コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験 ・反応管:Φ2.5inch (標準) , Φ4inchオプション ・マスフローコントローラ 高精度流量制御 ±1%F.S. ・バラトロンゲージ搭載 高精度 APC 圧力制御 ・【Lab View】ソフトウェアによりPCよりrもーと制御 ・Eurotherm社 2416 プログラム温度調節計搭載

  • シリーズ

    Nanofurnace 卓上型 熱CVD 装置 Model. BWS-NANO

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Nanofurnace 卓上型 熱CVD 装置 Model. BWS-NANO 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 石英管 試料サイズ 最高使用温度 圧力調整 真空計 流量制御 流量範囲 到達真空度 ベンチトップ寸法 重量 電源 プロセスガス 圧縮空気
Nanofurnace 卓上型 熱CVD 装置 Model. BWS-NANO-品番-BWS-NANO

BWS-NANO

要見積もり

Φ2.5inch 標準, Φ4inch (オプション) ×長さ12inch

10mm (Φ2.5inch) 100mm (Φ4inch)

Max1,100℃

Baratron ゲージ+640 圧力コントローラ (MKS社)

コールドカソードゲージ

マスフローコントローラ (MKS社)

0~100, or 1,000sccm (*ガス種による)

5×10-3Torr (ロータリーポンプ付属)

1,270 (W) ×355 (D) ×460 (H) mm

約70kg

単層200V 13A 50/60Hz

30psi, 200sccm max.Φ1/4inch

60-80psi, Φ6mm プッシュロック

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

半導体・電子部品などの研究・開発・製造プロセスに必要な要素である「熱」応用製品の販売を基盤とし、「基板加熱ヒーター」「温度計測機器」「実験炉」「薄膜実験装置」他企画開発商品の販売を行うことにより先端分野発展の一旦を担い、...

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