微細レーザー露光・加工装置 ORES-5000
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この製品について

超微⼩径のレーザー源、⾼精度ステージ及び⾼解像度の光学システムにより、超精密な加⼯・露光処理を実現します。

■主な機能・観察画像を⾒ながら、マニュアルで加⼯が可能。
・モニター上の観察画⾯にて、ワークの基準位置 (例:原点、右下、右上) をクリックすることで位置補正処理/⾃動アライメント可能。
・CADデータのインポート機能や編集機能も対応可能。

■波⻑吸収特性による加⼯適合性・266nm。クロム (Cr) 、アルミ (Al) 、ITO、モリブデン (Mo) 、シリコンナイトライド、ポリイミド、RGB_CF及びCF上オーバーコート
・355nm。クロム (Cr) 、アルミ (Al) 、ITO、モリブデン (Mo) 、シリコンナイトライド、ポリイミド、TFT配線の溶接、RGB_CF及びCF上オーバーコート
・532nm。クロム (Cr) 、アルミ (Al) 、ITO、銅 (Cu) 、⾦ (Au) 、チタン (Ti) 、ニッケル (Ni) 、ニッケルクロム、チタン･タングステン、TFT配線の溶接、RGB_CF及びCF内の不純物、CF上オーバーコート、ポリシリコン
・1,064nm。クロム (Cr) 、アルミ (Al) 、ITO、ニッケル (Ni) 、TFT配線の溶接、RGB_CF及びCF上オーバーコート、ポリシリコン

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
微細レーザー露光・加工装置 ORES-5000

取扱企業
オオクマ電子株式会社

カテゴリ

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微細レーザー露光・加工装置 ORES-5000 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	最⼩照射径	照射エネルギー	照射波⻑	スリット	発振⽅式	レンズ倍率	観察倍率	レンズWD	レンズ焦点距離	レンズ搭載数	同焦点距離	デジタルズーム	ステージサイズ	ステージ軸	XYステージ分解能	Zステージ分解能	Θステージ	多孔質吸着ステージ	防振機構
	ORES-5000	要見積もり	0.8µm~ ※対物レンズスペックに依存	0.5~10.0mJ	266nm/355nm/532nm/1064nm ※何れか選択可	⾓	空冷YAG/⽔冷YAG	10~150倍 ※明視野・暗視野・各波⻑対応 ※⾼NA、⾼倍率カスタム可能	総合倍率で12,000倍	10mmなど ※様々なWDのご要望にも対応可能	2mm~	2~6本	標準95mm ※対物レンズに依存	有り	□100mm ※カスタム対応可能	XYZθ 4軸搭載	16nm (軸毎繰り返し精度︓±0.08um)	1nm (ストローク±2.5mm)	±135° (⾓度分解能:0.000016°)	※オプション	標準搭載