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微細レーザー露光・加工装置 ORES-5000-ORES-5000
微細レーザー露光・加工装置 ORES-5000-オオクマ電子株式会社

微細レーザー露光・加工装置 ORES-5000
オオクマ電子株式会社

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この製品について

超微⼩径のレーザー源、⾼精度ステージ及び⾼解像度の光学システムにより、超精密な加⼯・露光処理を実現します。

■主な機能

・観察画像を⾒ながら、マニュアルで加⼯が可能。 ・モニター上の観察画⾯にて、ワークの基準位置 (例:原点、右下、右上) をクリックすることで位置補正処理/⾃動アライメント可能。 ・CADデータのインポート機能や編集機能も対応可能。

■波⻑吸収特性による加⼯適合性

・266nm。クロム (Cr) 、アルミ (Al) 、ITO、モリブデン (Mo) 、シリコンナイトライド、ポリイミド、RGB_CF及びCF上オーバーコート ・355nm。クロム (Cr) 、アルミ (Al) 、ITO、モリブデン (Mo) 、シリコンナイトライド、ポリイミド、TFT配線の溶接、RGB_CF及びCF上オーバーコート ・532nm。クロム (Cr) 、アルミ (Al) 、ITO、銅 (Cu) 、⾦ (Au) 、チタン (Ti) 、ニッケル (Ni) 、ニッケルクロム、チタン・タングステン、TFT配線の溶接、RGB_CF及びCF内の不純物、CF上オーバーコート、ポリシリコン ・1,064nm。クロム (Cr) 、アルミ (Al) 、ITO、ニッケル (Ni) 、TFT配線の溶接、RGB_CF及びCF上オーバーコート、ポリシリコン

  • シリーズ

    微細レーザー露光・加工装置 ORES-5000

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微細レーザー露光・加工装置 ORES-5000 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 最⼩照射径 照射エネルギー 照射波⻑ スリット 発振⽅式 レンズ倍率 観察倍率 レンズWD レンズ焦点距離 レンズ搭載数 同焦点距離 デジタルズーム ステージサイズ ステージ軸 XYステージ分解能 Zステージ分解能 Θステージ 多孔質吸着ステージ 防振機構
微細レーザー露光・加工装置 ORES-5000-品番-ORES-5000

ORES-5000

要見積もり

0.8µm~ ※対物レンズスペックに依存

0.5~10.0mJ

266nm/355nm/532nm/1064nm
※何れか選択可

空冷YAG/⽔冷YAG

10~150倍
※明視野・暗視野・各波⻑対応
※⾼NA、⾼倍率カスタム可能

総合倍率で12,000倍

10mmなど
※様々なWDのご要望にも対応可能

2mm~

2~6本

標準95mm
※対物レンズに依存

有り

□100mm
※カスタム対応可能

XYZθ 4軸搭載

16nm
(軸毎繰り返し精度︓±0.08um)

1nm
(ストローク±2.5mm)

±135°
(⾓度分解能:0.000016°)

※オプション

標準搭載

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  • 本社所在地: 熊本県
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