フェノールレジンフォトレジスト用ノボラック
住友ベークライト株式会社

無料
見積もり費用は無料です、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

この製品について

■製品紹介半導体・LCD等に用いられるフォトレジストの、感度・残膜率・解像性・耐熱性等に寄与するノボラック樹脂製品をご提供します。


特長
■当社フォトレジスト用樹脂の優れた5つの特長・高度な分子量制御によりロット間安定性に優れています。
・アルカリ現像液に対する溶解性制御性に優れています。
・独自の手法により分子量分布制御性に優れています。
・独自の手法により結合様式制御性に優れています。
・多種にわたるモノマー配合技術を有しています。

用途
■エレクトロニクス・電機半導体 (半導体・LCD・その他用途向けフォトレジスト) 