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プラズマCVD PEGASUS HDP-CVD-PEGASUS HDP-CVD
プラズマCVD PEGASUS HDP-CVD-株式会社セルバック

プラズマCVD PEGASUS HDP-CVD
株式会社セルバック

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この製品について

PEGASUS HDP-CVDは、ICPの高密度プラズマの高いガス分解効率で、低温成膜と緻密な膜を作り上げます。2タイプのHDP-CVDは、BタイプとHタイプが有り、低温成膜と高速処理に使い分けています。低温成膜のSiO2は,熱酸化膜と同レベルの耐電圧 (10MV) の膜も出来ます。

  • シリーズ

    プラズマCVD PEGASUS HDP-CVD

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プラズマCVD PEGASUS HDP-CVD 品番1件

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使用用途

#センサー開発 #ディスプレイ製造 #バリア膜形成 #研究開発 #光学部品製造 #絶縁膜形成 #太陽電池製造 #電子部品製造 #半導体製造 #表面改質

プラズマ励起方式

容量結合型 誘導結合型 マイクロ波型 パルス電源型

反応場構成

リモート型 平行平板型 シャワーヘッド型 チャンバー分割型

基板処理方式

枚葉式 バッチ式 インライン連続式 立体部品支持式

基板加熱温度 ℃

0 - 300 300 - 500 500 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200

制御操作

PC PLC タッチパネル

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