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半導体製造装置 PEGASUS HDP-CVD-PEGASUS HDP-CVD
半導体製造装置 PEGASUS HDP-CVD-株式会社セルバック

半導体製造装置 PEGASUS HDP-CVD
株式会社セルバック

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この製品について

PEGASUS HDP-CVDは、ICPの高密度プラズマの高いガス分解効率で、低温成膜と緻密な膜を作り上げます。2タイプのHDP-CVDは、BタイプとHタイプが有り、低温成膜と高速処理に使い分けています。低温成膜のSiO2は,熱酸化膜と同レベルの耐電圧 (10MV) の膜も出来ます。

  • シリーズ

    半導体製造装置 PEGASUS HDP-CVD

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半導体製造装置 PEGASUS HDP-CVD 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜)
半導体製造装置 PEGASUS HDP-CVD-品番-PEGASUS HDP-CVD

PEGASUS HDP-CVD

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ウェハーサイズ mm

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チップサイズ mm

0 - 1 1 - 2 2 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 35

基板サイズ mm

0 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 500

処理能力 秒/chip

0 - 1 1 - 2 2 - 31

ボンディング精度 μm

0 - 1 1 - 3 3 - 6 6 - 13 13 - 21

電源電圧 V

90 - 120 120 - 220 220 - 260

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  • 本社所在地: 京都府

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