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半導体製造装置 PEGASUS HDP-CVD-PEGASUS HDP-CVD
半導体製造装置 PEGASUS HDP-CVD-株式会社セルバック

半導体製造装置 PEGASUS HDP-CVD
株式会社セルバック



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この製品について

PEGASUS HDP-CVDは、ICPの高密度プラズマの高いガス分解効率で、低温成膜と緻密な膜を作り上げます。2タイプのHDP-CVDは、BタイプとHタイプが有り、低温成膜と高速処理に使い分けています。低温成膜のSiO2は,熱酸化膜と同レベルの耐電圧 (10MV) の膜も出来ます。

  • シリーズ

    半導体製造装置 PEGASUS HDP-CVD

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半導体製造装置 PEGASUS HDP-CVD 品番1件

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