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プラズマCVD装置 PEGASUS Plat Form-PEGASUS Plat Form
プラズマCVD装置 PEGASUS Plat Form-株式会社セルバック

プラズマCVD装置 PEGASUS Plat Form
株式会社セルバック



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この製品について

PEGASUS Plat Formは、省スペース設計され柔軟なアーキテクチャによりプラズマCVD、RTA、Ashing、EtchingのProcess chamberが統合可能なシステムです。

  • シリーズ

    プラズマCVD装置 PEGASUS Plat Form

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プラズマCVD装置 PEGASUS Plat Form 品番1件

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PEGASUS Plat Form

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基板加熱温度 ℃

0 - 300 300 - 500 500 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200

制御操作

PC PLC タッチパネル

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