リフロー装置 TNV VersionⅢ 250mm×2 (Dual)
萬世興業株式会社
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この製品について
■省エネモード搭載の最新機種
『メンテナンス頻度の低減』による生産機会損失低減、窒素消費量・電気消費量の低減による『省エネルギー』を極限まで追求し、高度な『IoT化への対応』を実現。お客様のニーズを最大限に取り入れた最新型超高性能リフロー装置「TNV VersionⅢ」。株式会社タムラ製作所製品。■メンテナンス頻度の提言：「汚れを 出さない つけない のがさない」
特に炉内のフラックス付着による汚れの清掃には多くの時間と労力が必要でした。実装基板を加熱する際フラックス等を含む様々なヒュームが装置内で発生します。 そこで、汚れ付着のメカニズムを見直し汚れを出さない、つけない、のがさないをテーマとして取り組みフラックスヒュームが発生する部位を特定し、気体を効率的に誘導する対流制御技術によってメンテナンス頻度の低減を実現しました。 フィールドでのランニングテストの結果、従来のメンテナンスサイクルが2倍から3倍延長されました。■省エネルギー化：IoTへの対応
炉内対流制御によって炉内の雰囲気安定性が大幅に向上。基板連続搬送時において酸素濃度全ゾーン1,000ppm以下での管理が容易になりました。また、立ち上げ方式の改良などソフト・ハード双方の最適化を図る事で、窒素消費量、電気消費量の低減について業界最高レベル (当社調べ) を実現しました。 ・マウンタメーカーとの連携を強化 ・マウンタメーカーとの連携を強化 ・発展が著しいIoT化に向けてマウンタメーカーとの連携を強化しており、各社の自動段取り切替機能、生産管理システムへの対応を進めています。■省電力化：立上げ時間の短縮
・ヒーター制御方式を変更 ・チラーへの負荷軽減 (N2の有効活用) ・フラックス回収経路と流量の最適化 ・ブロワー制御方式の最適化 ・窒素消費量の低減 ・電気消費量の低減■性能比較
・従来機→TNV version Ⅲ ・メンテナンス頻度 (ペースト使用量) ：1回/20kg (1週間) →1回/240kg (3ヶ月) ・フラックス回収率：15％→50% ・冷却パネルに付着したフラックス量：3.7g→0.1g ・安定消費電力：8.3kW→8.2kW ・窒素消費量 (※全ゾーン1,000ppm以下) ：400 NL/min→250 NL/min-
シリーズ
リフロー装置 TNV VersionⅢ 250mm×2 (Dual)
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取扱企業
萬世興業株式会社
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リフロー装置 TNV VersionⅢ 250mm×2 (Dual) 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | メンテナンス頻度 (ペースト使用量) | フラックス回収率 | 冷却パネルに付着したフラックス量 | 安定消費電力 | 窒素消費量 (※全ゾーン1,000ppm以下) | 装置立上時間 | 対象基板幅 (max) | 加熱ゾーン数：8ゾーン | 加熱ゾーン数：10ゾーン | 加熱ゾーン数：12ゾーン |
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TNV VersionⅢ 250mm×2 (Dual) |
要見積もり | 1回/240kg (3ヶ月) | 50% | 0.1g | 8.2kW | 250 NL/min | 35 min | 250mm×2 (Dual) | 〇 | 〇 | 〇 |
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