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UV用ネガティブフォトレジスト ma-N400
株式会社オーエステック



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この製品について

■ネガティブフォトレジストの特徴

各種用途に設計された各種ネガティブフォトレジストシリーズ ・ 従来のパターン転写 ・リフトオフプロセス ・永久マテリアルとして使用 ・各種の粘性ですぐに利用できるソルーション

■主な用途

・超小型電子技術およびマイクロシステム技術 ・リフトオフプロセス用マスク ・半導体および金属用エッチマスク

  • シリーズ

    UV用ネガティブフォトレジスト ma-N400

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UV用ネガティブフォトレジスト ma-N400 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) スペクトル感度 照射線量@ 365 nm 熱安定性 現像液

ma-N400

要見積もり

300 - 380 n

350 - 1,900 mJ/cm2

up to 110℃金属蒸着に対して110 ℃まで

ma-D 332/Sおよびma-D 331/S (NaOHベース)

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社オーエステックは、商社です。 1992年に設立、大阪に本社をおく電子部品の製造に使用する材料を取り扱う専門商社です。主な事業内容としては、半導体に関する材料やスマートフォンやPC、冷蔵庫やエアコンなどに使用され...

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  • 本社所在地: 大阪府
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