UV用ネガティブフォトレジスト ma-N400
株式会社オーエステック
この製品について
■ネガティブフォトレジストの特徴
各種用途に設計された各種ネガティブフォトレジストシリーズ ・ 従来のパターン転写 ・リフトオフプロセス ・永久マテリアルとして使用 ・各種の粘性ですぐに利用できるソルーション■主な用途
・超小型電子技術およびマイクロシステム技術 ・リフトオフプロセス用マスク ・半導体および金属用エッチマスク-
シリーズ
UV用ネガティブフォトレジスト ma-N400
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取扱企業
株式会社オーエステック
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カテゴリ
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UV用ネガティブフォトレジスト ma-N400 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | スペクトル感度 | 照射線量@ 365 nm | 熱安定性 | 現像液 |
|---|---|---|---|---|---|---|
ma-N400 |
要見積もり | 300 - 380 n | 350 - 1,900 mJ/cm2 | up to 110℃金属蒸着に対して110 ℃まで | ma-D 332/Sおよびma-D 331/S (NaOHベース) |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
