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ガラスエポキシ基板材料 R-1766-パナソニックインダストリー株式会社

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全型番で同じ値の指標

ガラス転移温度 (Tg) ℃

140

熱分解温度 (Td) ℃

315

熱膨張係数 (タテ方向) α1 ppm/℃

11-13

熱膨張係数 (ヨコ方向) α1 ppm/℃

13-15

熱膨張係数 (厚さ方向) α1 ppm/℃

65

熱膨張係数 (厚さ方向) α2 ppm/℃

270

比誘電率 (Dk)

4.3

誘電正接 (Df)

0.016

吸水率 %

0.14

引き剥がし強さ kN/m

2.0

この製品について

■ガラスエポキシ多層基板材料

優れた基板加工性を実現し、多用途に適した基板材料

■ガラスエポキシ多層基板材料 R-1766

・二次積層成型性が良く、層間接着力に優れています ・樹脂スミア発生の少ない高速ドリル加工ができます ・電気特性、機械特性に優れています

■用途

車載機器など多用途用

■詳細用途

車載機器、モバイル機器、携帯電話、アミューズメント機器、アプライアンス、計測機器など

■主要特性

・優れた多層成型性 ・優れた加工性 ・寸法安定性

  • 型番

    R-1766

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ガラスエポキシ基板材料 R-1766 R-1766の性能表

商品画像 価格 (税抜) ガラス転移温度 (Tg) ℃ 熱分解温度 (Td) ℃ 熱膨張係数 (タテ方向) α1 ppm/℃ 熱膨張係数 (ヨコ方向) α1 ppm/℃ 熱膨張係数 (厚さ方向) α1 ppm/℃ 熱膨張係数 (厚さ方向) α2 ppm/℃ 比誘電率 (Dk) 誘電正接 (Df) 吸水率 % 引き剥がし強さ kN/m
ガラスエポキシ基板材料 R-1766-品番-R-1766 要見積もり 140 315 11-13 13-15 65 270 4.3 0.016 0.14 2.0

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使用用途

#アンプ #コンピュータ #モバイル機器 #家電 #計測機器 #産業機器 #車載 #通信機器 #電源機器 #半導体パッケージ

層数 層

1 - 2 2 - 6 6 - 12 12 - 20 20 - 32

板厚 mm

0 - 1 1 - 2 2 - 4 4 - 8

最小線幅 μm

10 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 500

最小ドリル径 mm

0.1 - 0.2 0.2 - 0.4 0.4 - 0.5 0.5 - 0.7

穴径 mm

0 - 0.1 0.1 - 0.2 0.2 - 0.3 0.3 - 0.4 0.4 - 0.5 0.5 - 1 1 - 7

パッドピッチ mm

0 - 1 1 - 3

銅箔厚 μm

0 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 600

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

パナソニックインダストリー株式会社は、電子部品・産業デバイス・電子材料の開発・製造・販売を行う、パナソニックホールディングス傘下の大手メーカーです。 2022年に創業し、メカトロニクス・産業デバイス・デバイスソリューシ...

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  • 本社所在地: 大阪府

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