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微細レーザー露光・加工装置 ORES-5000-オオクマ電子株式会社

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最⼩照射径

0.8µm~ ※対物レンズスペックに依存

照射エネルギー

0.5~10.0mJ

照射波⻑

266nm/355nm/532nm/1064nm ※何れか選択可

スリット

発振⽅式

空冷YAG/⽔冷YAG

レンズ倍率

10~150倍 ※明視野・暗視野・各波⻑対応 ※⾼NA、⾼倍率カスタム可能

観察倍率

総合倍率で12,000倍

レンズWD

10mmなど ※様々なWDのご要望にも対応可能

レンズ焦点距離

2mm~

レンズ搭載数

2~6本

同焦点距離

標準95mm ※対物レンズに依存

デジタルズーム

有り

ステージサイズ

□100mm ※カスタム対応可能

ステージ軸

XYZθ 4軸搭載

XYステージ分解能

16nm (軸毎繰り返し精度︓±0.08um)

Zステージ分解能

1nm (ストローク±2.5mm)

Θステージ

±135° (⾓度分解能:0.000016°)

多孔質吸着ステージ

※オプション

防振機構

標準搭載

この製品について

超微⼩径のレーザー源、⾼精度ステージ及び⾼解像度の光学システムにより、超精密な加⼯・露光処理を実現します。

■主な機能

・観察画像を⾒ながら、マニュアルで加⼯が可能。 ・モニター上の観察画⾯にて、ワークの基準位置 (例:原点、右下、右上) をクリックすることで位置補正処理/⾃動アライメント可能。 ・CADデータのインポート機能や編集機能も対応可能。

■波⻑吸収特性による加⼯適合性

・266nm。クロム (Cr) 、アルミ (Al) 、ITO、モリブデン (Mo) 、シリコンナイトライド、ポリイミド、RGB_CF及びCF上オーバーコート ・355nm。クロム (Cr) 、アルミ (Al) 、ITO、モリブデン (Mo) 、シリコンナイトライド、ポリイミド、TFT配線の溶接、RGB_CF及びCF上オーバーコート ・532nm。クロム (Cr) 、アルミ (Al) 、ITO、銅 (Cu) 、⾦ (Au) 、チタン (Ti) 、ニッケル (Ni) 、ニッケルクロム、チタン・タングステン、TFT配線の溶接、RGB_CF及びCF内の不純物、CF上オーバーコート、ポリシリコン ・1,064nm。クロム (Cr) 、アルミ (Al) 、ITO、ニッケル (Ni) 、TFT配線の溶接、RGB_CF及びCF上オーバーコート、ポリシリコン

  • 型番

    ORES-5000

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微細レーザー露光・加工装置 ORES-5000 ORES-5000の性能表

商品画像 価格 (税抜) 最⼩照射径 照射エネルギー 照射波⻑ スリット 発振⽅式 レンズ倍率 観察倍率 レンズWD レンズ焦点距離 レンズ搭載数 同焦点距離 デジタルズーム ステージサイズ ステージ軸 XYステージ分解能 Zステージ分解能 Θステージ 多孔質吸着ステージ 防振機構
微細レーザー露光・加工装置 ORES-5000-品番-ORES-5000 要見積もり 0.8µm~ ※対物レンズスペックに依存 0.5~10.0mJ 266nm/355nm/532nm/1064nm
※何れか選択可
空冷YAG/⽔冷YAG 10~150倍
※明視野・暗視野・各波⻑対応
※⾼NA、⾼倍率カスタム可能
総合倍率で12,000倍 10mmなど
※様々なWDのご要望にも対応可能
2mm~ 2~6本 標準95mm
※対物レンズに依存
有り □100mm
※カスタム対応可能
XYZθ 4軸搭載 16nm
(軸毎繰り返し精度︓±0.08um)
1nm
(ストローク±2.5mm)
±135°
(⾓度分解能:0.000016°)
※オプション 標準搭載

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レーザー出力 W

0 - 10 10 - 30 30 - 60 60 - 100 100 - 200 200 - 1,000 1,000 - 20,000

レーザー種類

CO2レーザー シールドタイプCO2レーザー 半導体レーザー ファイバーレーザー 炭酸ガスレーザー YVO4レーザー 固体レーザー

電源仕様

AC200V AC220V

冷却方式

空冷 水冷

最大消費電力 W

0 - 100 100 - 500 500 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 3,000

本体重量 kg

0 - 100 100 - 500 500 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 4,000

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  • 本社所在地: 熊本県

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