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プラズマCVD装置 PEGASUS-株式会社セルバック

PEGASUS | プラズマCVD装置 PEGASUS
株式会社セルバック

この製品について

PEGASUSは、メモリ、パワーデバイス、パッケージ、MEMS市場において高品位の成膜プロセスを提供します。

  • 型番

    PEGASUS

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使用用途

#センサー開発 #ディスプレイ製造 #バリア膜形成 #研究開発 #光学部品製造 #絶縁膜形成 #太陽電池製造 #電子部品製造 #半導体製造 #表面改質

基板加熱温度 ℃

0 - 300 300 - 500 500 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200

制御操作

PC PLC タッチパネル

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