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オリフラ

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この製品について

■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています。

エピタキシャル成長用基板は、結晶性、基板表面の平滑、平坦性とともに最表面の結晶格子歪の有無が重要です。弊社は長年の技術の蓄積により、結晶育成 (一部結晶は除く) から加工まで自社内で一貫生産しており、高精度な加工技術により、加工歪層のない高品質な結晶基板表面に仕上げております。 誘電体、超伝導、化合物半導体などのエピタキシャル成長に最適な酸化物結晶基板を提供しております。

■物性

・組成 Y2O3 (10 mol%) -ZrO2 (90 mol%) ・結晶系 立方晶 ・結晶構造 CaF2型 ・格子定数 a=0.5139 nm ・融点 2,500 ℃ ・密度 6.05 g/cm3 (20 ℃) ・誘電率 27 ・熱膨張係数 10.3×10^-6/℃

■オプション

・OFF基板 ・ブレイク溝付き基板

  • 型番

    YZーASー10N

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薄膜成長用酸化物基板 YSZ YZーASー10Nの性能表

商品画像 価格 (税抜) 面方位 (公差:±0.5°) 研磨 表面粗さ 表面処理 オリフラ
要見積もり (100) 片面研磨 Ra≦1.0 nm
Rmax≦5.0 nm
標準 (010)

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使用用途

#ウエハ製造 #フォトリソグラフィー #エッチング #薄膜形成 #ドーピング #CMP研磨 #半導体製造 #精密機器製造

厚さ μm

150 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 600 600 - 1,200 1,200 - 1,400

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この商品の取り扱い会社情報

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30.1時間

会社概要

株式会社信光社は1947年に設立された、各種酸化物単結晶製品の製造・販売をしている会社です。 サファイアやルチルなどの酸化物単結晶製品、光アイソレータやルチルプリズムなどの光通信デバイスの製造だけでなく、ファイバーレー...

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  • 本社所在地: 神奈川県

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