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膜厚µm

0.5

スピンコーティングrpm

3,000

スピンコーティングs

30

線量@ 365 nm (広帯域露光) mJ cm^-2

35

この製品について

■ポジ型フォトレジストの独特の特徴

・g-line、i-lineまたは広帯域露光に対する感度 ・露光後ベークなし ・容易な除去 ・各種粘性にすぐ使用できるレジストソルーション ・広いプロセスウィンドウと容易な取扱い

■主用途

・エッチング用マスク (例:Si、SiO2、他の半導体、金属) ・イオン注入用マスク ・電気メッキ用モールド

  • 型番

    ma-P1205

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ポジ型フォトレジスト ma-P1205 ma-P1205の性能表

商品画像 価格 (税抜) 膜厚µm スピンコーティングrpm スピンコーティングs 線量@ 365 nm (広帯域露光) mJ cm^-2
要見積もり 0.5 3,000 30 35

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使用用途

#ウエハ製造 #フォトリソグラフィー #エッチング #薄膜形成 #ドーピング #CMP研磨 #半導体製造 #精密機器製造

厚さ μm

150 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 600 600 - 1,200 1,200 - 1,400

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社オーエステックは、商社です。 1992年に設立、大阪に本社をおく電子部品の製造に使用する材料を取り扱う専門商社です。主な事業内容としては、半導体に関する材料やスマートフォンやPC、冷蔵庫やエアコンなどに使用され...

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  • 本社所在地: 大阪府

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