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枚葉式プラズマCVD装置 CMDシリーズ-アルバック販売株式会社

アルバック販売株式会社の対応状況

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100.0%

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基板サイズ (mm)

400×500×t0.7

仕込取出室

2室

加熱室

1室

反応室

4室 (アニール室がある場合3室)

搬送室

1室 (7角形)

真空排気系 仕込取出室 反応室

ロータリー+メカブ ドライ+メカブ

基板移載機

オプション

生産量

65秒/枚 (当社標準条件SiN 300nm単層)

この製品について

■概要

CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。

■用途

低温P-Si、α-Si TFT

■特長

・従来のプロセス温度に比べ、より高温でも動作可能な各ユニットの駆動系、真空搬送ロボットの開発により安定した搬送系を実現しました。 ・反応室内部構造、ガス供給システムの改良により TEOS (SiO2) 膜の長期的に安定したレートを得ることができます。 ・反応ガス経路の加熱化により除外設備までガス状態で排気でき、配管トラップ未使用にて配管等に副生成物の付着を抑制し、メンテナンス時間の短縮が可能になりました。 ・成膜条件など基板個別管理が容易にできます。

  • 型番

    CMD-450BHT

企業レビュー 4.8

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2025年8月7日にレビュー済み

顧客対応への満足度

フォームを経由し、非常にわかりやすくスムーズなお問い合わせのご対応をいただけました。誠にありがとうございます。

初回対応までの時間への満足度

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枚葉式プラズマCVD装置 CMDシリーズ CMD-450BHTの性能表

商品画像 価格 (税抜) 基板サイズ (mm) 仕込取出室 加熱室 反応室 搬送室 真空排気系 仕込取出室 反応室 基板移載機 生産量
枚葉式プラズマCVD装置 CMDシリーズ-品番-CMD-450BHT 要見積もり 400×500×t0.7 2室 1室 4室 (アニール室がある場合3室) 1室 (7角形) ロータリー+メカブ
ドライ+メカブ
オプション 65秒/枚
(当社標準条件SiN 300nm単層)

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使用用途

#センサー開発 #ディスプレイ製造 #バリア膜形成 #研究開発 #光学部品製造 #絶縁膜形成 #太陽電池製造 #電子部品製造 #半導体製造 #表面改質

プラズマ励起方式

容量結合型 誘導結合型 マイクロ波型 パルス電源型

反応場構成

リモート型 平行平板型 シャワーヘッド型 チャンバー分割型

基板処理方式

枚葉式 バッチ式 インライン連続式 立体部品支持式

基板加熱温度 ℃

0 - 300 300 - 500 500 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200

制御操作

PC PLC タッチパネル

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この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


返答時間

168.8時間


企業レビュー

4.8

会社概要

アルバック販売株式会社は、1970年に設立された、真空機器関連の専門商社です。 株式会社アルバック(神奈川県)のグループ会社の1社であり、アルバック社の真空機器の国内販売を担います。販売先は、大手メーカーや官公庁・大学...

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  • 本社所在地: 東京都

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