オックスフォード・インストゥルメンツのプラズマCVD装置
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オックスフォード・インストゥルメンツのプラズマCVD装置6製品中の注目ランキング
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オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
ICPCVDプロセスモジュール PlasmaPro 100 ICPCVD
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ICPCVD (誘導結合プラズマ) プロセスモジュールは、低温で高品質の薄膜を製造するように設計され、高密度リモートプラズマによりダメージの少ない優れた薄膜...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
ナノ材料の高い成膜特性を実現 PlasmaPro 100 Nano CVD
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化学気相堆積 (CVD) やプラズマCVD (PECVD) は、1Dナノ材料や 2Dナノ材料の成長、ヘテロ接合の形成に適したツールです。PlasmaPro 100 Nano (以前の名称は Na...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
プラズマCVDシステム PlasmaPro 100 PECVD
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PlasmaPro 100 PECVD システムは、屈折率、応力、電気特性、ウェットケミカルエッチング速度などの膜特性を制御し、優れた均一性を持つ高品質な薄膜製造用の...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
コンパクトな多様なエッチングとデポジションのソリューション PlasmaPro 80 PECVD
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PlasmaPro 80は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易いオープンロード方式で実現します。...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易い大気装入方式で実現 PlasmaPro 80 RIE
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■概要 PlasmaPro 80 リアクティブイオンエッチング (RIE) は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD
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PlasmaPro 800は、プラズマ励起化学気相堆積 (PECVD) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチと300mmウェハにおいて、コンパクトな専有面積か...
