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使用用途

#研究開発

#半導体製造

プラズマ励起方式

マイクロ波型

基板加熱温度 ℃

800 - 1,000

1,000 - 1,200

制御操作

タッチパネル

アリオスのプラズマCVD装置

2 点の製品がみつかりました

2 点の製品

アリオス株式会社

ダイヤモンド合成用MP-CVD装置 DCVD-301B/601B

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■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しま...


アリオス株式会社

プラズマCVD実験装置 PCVD-R100

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■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分...




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