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#研究開発

基板加熱温度 ℃

800 - 1,000

アリオスのプラズマCVD装置

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アリオス株式会社

プラズマCVD実験装置 PCVD-R100

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■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分...




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