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使用用途

#半導体製造

プラズマ励起方式

マイクロ波型

基板加熱温度 ℃

1,000 - 1,200

制御操作

タッチパネル

アリオスのプラズマCVD装置

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1 点の製品

アリオス株式会社

ダイヤモンド合成用MP-CVD装置 DCVD-301B/601B

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■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しま...




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