マスクレス露光装置 3次元形状レーザ露光装置
ネオアーク株式会社

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この製品について

■3次元形状へのフォトリソグラフィを実現フォトリソグラフィは幅広い分野で活用されていますが、一般的に平面ワークに対して行われています。しかし、デバイスの小型化、高性能化、デザイン性向上への対応は著しく、今までの平面に対するフォトリソグラフィでは不十分な状況が増えてきており、3次元形状へのフォトリソグラフィの実現が期待されてきました。

本装置は5軸ステージを制御することで様々な3次元形状のワークに対して任意のパターンをマスクレスで露光することが可能となり、次世代の製品を見据えた研究開発に活用することができます。

■3次元形状へのフォトリソグラフィを可能にする5軸ステージ従来のXYZ直動ステージでは3次元形状ワークの露光点に対して入射角が変化してしまい露光品質に差が生じてしまいます。直動3軸+回転2軸の5軸ステージを採用することによって、3次元形状ワーク上の任意の点に対してレーザ入射角を一定に保ちつつ自由に照射することが可能となりました。

最大5軸の同時補間動作＋フィードバック制御を行うことにより、等速度運動が実現され、高精度のパターニングが可能となります。

■2方式のオートフォーカスを採用したアシスト機能ワークやデリケートなレジストにダメージを与えることない非接触でワークの取り付け誤差の補正やパターニング中の焦点補正を行います。
・補正観察用カメラによるコントラスト方式オートフォーカスを多点数実施することで、ワークの取り付け角度の誤差を算出して補正を行います。 (ワーク取り付け誤差補正) 
・赤色レーザによる三角測量方式オートフォーカスを用いてパターニング中に発生するフォーカス誤差を算出してリアルタイム補正を行います。 (パターニング中の焦点補正) 

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
マスクレス露光装置 3次元形状レーザ露光装置

取扱企業
ネオアーク株式会社

カテゴリ

加工・工作機器

FPD露光装置

半導体製造

露光装置

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マスクレス露光装置 3次元形状レーザ露光装置品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	ステージ構成	最大ワークサイズ	装置構成	装置寸法	露光光源	対物レンズ	最小露光線幅
	3次元形状レーザ露光装置	要見積もり	5軸ステージ XY軸：直進 300mmストローク Z軸：直進 200mmストローク Α軸：回転 360° Β軸：回転 90°	1辺が100mm以下の立方体	装置本体・制御パソコン・専用ソフトウェア	W1000 × H1800 × D900 (mm)	375nm 半導体レーザ	NUV 専用設計2倍 / NUV 10倍	10μm以下 ※使用対物レンズおよびレジスト種類およびレジスト厚によって変わります。