マスクレス露光装置 PALET 大型ステージモデル DDB-701-DL4-DDB-701-DL4

マスクレス露光装置 PALET 大型ステージモデル DDB-701-DL4
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この製品について

■フォトリソを、もっと身近にかつて「産業のコメ」と呼ばれた半導体。その半導体プロセスの根幹を支えた技術が「フォトリソグラフィ」です。時代とともにフォトリソグラフィが求められる分野は拡がり、今やMEMS、物性研究、バイオテクノロジーなど、多種多様な分野で利用される代表的な微細加工技術となりました。

一方で数ナノメートルにまで到達した半導体用フォトリソグラフィ装置はもちろんのこと、サブミクロンのパターンを露光する既存の装置でさえ、大型な装置サイズ、数千万～数億円単位の装置価格、環境や付帯設備、ユーザに求められる高い熟練度など、導入のハードルは非常に高いのが実情です。「微細加工に興味はある、しかし近くにインフラはない」という研究者・技術者にとって、このハードルの高さは開発テーマを諦めるに十分です。

”マスクレス露光装置PALET” は設置場所を選ばない装置サイズ、マスクレス露光装置の常識を破る価格設定、思いついたパターンをその場で形にできるシンプルな操作性を実現しました。ユーザ目線でハードルを取り除いた製品仕様は、トライ＆エラーが必要不可欠な研究・試作用途に最適です。

私たちは、この ”マスクレス露光装置PALET” を通じて、フォトリソグラフィをより身近なものにしていきたい、様々な研究を加速する手助けをしていきたい、そう願っています。

■業界の常識を覆す低価格設定「マスクレス露光装置は便利だが数千万円するものだから、導入は諦めよう」そんな常識を打ち破るべく機能を大胆に絞り込み、圧倒的なコストパフォーマンスを実現しましたさらにマスクレス露光装置としては異例の手動ステージモデルをラインナップ。初期投資を抑えて研究環境を整えられます。

最大露光エリアは25mm、最小露光線幅は3μmと、研究領域は選びますが、 高い自由度と低い導入コストはお客様の研究開発を強力にアシストします。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
マスクレス露光装置 PALET 大型ステージモデル DDB-701-DL4

取扱企業
ネオアーク株式会社

カテゴリ

半導体製造

露光装置

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マスクレス露光装置 PALET 大型ステージモデル DDB-701-DL4 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	ステージ	構成 (共通)	構成 (モデル)	光源	露光領域	ワークサイズ	ユーティリティ	対応ファイルフォーマット	本体外寸・質量	対物レンズ	最小露光線幅	ワンショットあたりの露光エリア	ワンショットあたりの露光時間
	DDB-701-DL4	要見積もり	電動XYZθステージ	装置本体・制御用PC・ソフトウェア	ステージドライバ防振テーブル	365nm (typ.) LED	100mm × 100mm	最大Φ150mm、厚み10mm	AC100V、消費電力 1.5kW以下	画像データ (JPEG / PNG / BITMAP) 、パワーポイントデータ (XPS) 、CADデータ (DXF)	500mm (W) × 600mm (D) × 650mm (H) 、約100kg	10倍・2倍	3μm・15μm	約1mm × 0.6mm・約5mm × 3mm	約1秒・約15秒