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研究開発用中電流イオン注入装置 IMX-3500-IMX-3500
研究開発用中電流イオン注入装置 IMX-3500-アルバック販売株式会社

研究開発用中電流イオン注入装置 IMX-3500
アルバック販売株式会社

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■概要

中電流イオン注入装置IMX-3500は、最大エネルギ200kV、ウェーハサイズ8インチまでの、イオン注入装置で、大学等での研究開発に最適です。

■特長

・最大ウェーハサイズ8インチで、不定形基板にも対応したプラテンを搭載しています。 ・イオン源は、ガスソースの他、B、P、Asイオンを、安全上の取扱が容易な、固体蒸発源も使用することができます。 ・HVターミナル部分は、量産装置と同じ構成になっており、高い信頼性を確保しています。

  • シリーズ

    研究開発用中電流イオン注入装置 IMX-3500

企業レビュー

レビューは全てメトリー経由で実際に見積もりをしたユーザーによるものです

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評判がとても良い

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2025年8月7日にレビュー

フォームを経由し、非常にわかりやすくスムーズなお問い合わせのご対応をいただけました。誠にありがとうございます。

初回返答までの時間・1.11時間

2025年7月28日にレビュー

返信までのタイムラグがありましたが,返信内容は丁寧でした。

初回返答までの時間・69.57時間

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研究開発用中電流イオン注入装置 IMX-3500 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) エネルギ 最大ビーム電流 最小ビーム電流 イオン種
研究開発用中電流イオン注入装置 IMX-3500-品番-IMX-3500

IMX-3500

要見積もり

30~200keV (オプションで3~200keV対応)

11B+400μA (200keV)
31P+600μA (200keV)

150nA

B、P、As、Si、Ge、Sb、In 他

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使用用途

#半導体製造 #ディスプレイ製造 #パワーデバイス製造 #材料改質

加速エネルギー

低エネルギー型 中エネルギー型 高エネルギー型

ビーム構造

マルチビーム型 スキャン型

特徴

高電流型 高精度型 高真空型 コンパクト型

エネルギー keV

0 - 5 5 - 100 100 - 300 300 - 1,000

最大ビーム電流 μA

0 - 100 100 - 500 500 - 1,000

硬度Hv Hv

0 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 3,500

摩擦係数

0 - 0.1 0.1 - 0.2 0.2 - 0.5

耐熱温度 ℃

300 - 400 400 - 500

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

アルバック販売株式会社は、1970年に設立された、真空機器関連の専門商社です。 株式会社アルバック(神奈川県)のグループ会社の1社であり、アルバック社の真空機器の国内販売を担います。販売先は、大手メーカーや官公庁・大学...

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  • 本社所在地: 東京都
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