中電流型イオン注入装置 SOPHI-200/260
アルバック販売株式会社
この製品について
■概要
中電流型イオン注入装置SOPHI-200/260は、最新技術を搭載した8、6、5インチのイオン注入装置です。サンプリングをお受けしています。■用途
・半導体、電子部品 ・パワーデバイス等の薄型基板プロセス、SiCプロセス ・R&D■特長
・先端技術を搭載した、究極のパラレルビームイオン注入装置です。 ・低価格、低ランニングコスト ・小型軽量 ・極薄型ウエハ直接搬送可能-
シリーズ
中電流型イオン注入装置 SOPHI-200/260
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取扱企業
アルバック販売株式会社
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カテゴリ
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中電流型イオン注入装置 SOPHI-200/260 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | エネルギー範囲 | ビーム平行度 | 均一性 |
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SOPHI-200 |
要見積もり | 3~200keV | 0.2°以下 | 0.5%以下 |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
