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中電流型イオン注入装置 SOPHI-200/260-SOPHI-200
中電流型イオン注入装置 SOPHI-200/260-アルバック販売株式会社

中電流型イオン注入装置 SOPHI-200/260
アルバック販売株式会社

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この製品について

■概要

中電流型イオン注入装置SOPHI-200/260は、最新技術を搭載した8、6、5インチのイオン注入装置です。サンプリングをお受けしています。

■用途

・半導体、電子部品 ・パワーデバイス等の薄型基板プロセス、SiCプロセス ・R&D

■特長

・先端技術を搭載した、究極のパラレルビームイオン注入装置です。 ・低価格、低ランニングコスト ・小型軽量 ・極薄型ウエハ直接搬送可能

  • シリーズ

    中電流型イオン注入装置 SOPHI-200/260

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中電流型イオン注入装置 SOPHI-200/260 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) エネルギー範囲 ビーム平行度 均一性
中電流型イオン注入装置 SOPHI-200/260-品番-SOPHI-200

SOPHI-200

要見積もり

3~200keV

0.2°以下

0.5%以下

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

アルバック販売株式会社は、1970年に設立された、真空機器関連の専門商社です。 株式会社アルバック(神奈川県)のグループ会社の1社であり、アルバック社の真空機器の国内販売を担います。販売先は、大手メーカーや官公庁・大学...

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  • 本社所在地: 東京都
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