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シリーズ
中電流型イオン注入装置 SOPHI-200/260取扱企業
アルバック販売株式会社カテゴリ
レビューは全てメトリー経由で実際に見積もりをしたユーザーによるものです
4.5
評判がとても良い
2025年8月7日にレビュー
フォームを経由し、非常にわかりやすくスムーズなお問い合わせのご対応をいただけました。誠にありがとうございます。
初回返答までの時間・1.11時間2025年7月28日にレビュー
返信までのタイムラグがありましたが，返信内容は丁寧でした。
初回返答までの時間・69.57時間| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | エネルギー範囲 | ビーム平行度 | 均一性 |
|---|---|---|---|---|---|
|
|
SOPHI-200 |
要見積もり |
3~200keV |
0.2°以下 |
0.5%以下 |
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イオン注入装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#半導体製造 #ディスプレイ製造 #パワーデバイス製造 #材料改質加速エネルギー
低エネルギー型 中エネルギー型 高エネルギー型ビーム構造
マルチビーム型 スキャン型特徴
高電流型 高精度型 高真空型 コンパクト型エネルギー keV
0 - 5 5 - 100 100 - 300 300 - 1,000最大ビーム電流 μA
0 - 100 100 - 500 500 - 1,000硬度Hv Hv
0 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 3,500摩擦係数
0 - 0.1 0.1 - 0.2 0.2 - 0.5耐熱温度 ℃
300 - 400 400 - 500
