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イオン注入装置 SOPHI-400-SOPHI-400
イオン注入装置 SOPHI-400-アルバック販売株式会社

イオン注入装置 SOPHI-400
アルバック販売株式会社

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この製品について

■概要

Max2,400KeVまで対応可能な高エネルギーのイオン注入装置です。

■用途

パワーデバイス等の薄型基板プロセス、IGBTプロセス

■特長

・枚葉式 ・薄Wafer対応 ・パラレルビーム

  • シリーズ

    イオン注入装置 SOPHI-400

企業レビュー 4.8

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2025年8月7日にレビュー済み

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フォームを経由し、非常にわかりやすくスムーズなお問い合わせのご対応をいただけました。誠にありがとうございます。

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イオン注入装置 SOPHI-400 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 基板サイズ 最大電圧
イオン注入装置 SOPHI-400-品番-SOPHI-400

SOPHI-400

要見積もり

Max200mm

2,400keV

フィルターから探す

イオン注入装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#半導体製造 #ディスプレイ製造 #パワーデバイス製造 #材料改質

加速エネルギー

低エネルギー型 中エネルギー型 高エネルギー型

ビーム構造

マルチビーム型 スキャン型

特徴

高電流型 高精度型 高真空型 コンパクト型

エネルギー keV

0 - 5 5 - 100 100 - 300 300 - 1,000

最大ビーム電流 μA

0 - 100 100 - 500 500 - 1,000

硬度Hv Hv

0 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 3,500

摩擦係数

0 - 0.1 0.1 - 0.2 0.2 - 0.5

耐熱温度 ℃

300 - 400 400 - 500

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この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


返答時間

145.5時間


企業レビュー

4.8

会社概要

アルバック販売株式会社は、1970年に設立された、真空機器関連の専門商社です。 株式会社アルバック(神奈川県)のグループ会社の1社であり、アルバック社の真空機器の国内販売を担います。販売先は、大手メーカーや官公庁・大学...

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  • 本社所在地: 東京都
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