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イオン注入装置 SOPHI-400-SOPHI-400
イオン注入装置 SOPHI-400-アルバック販売株式会社

イオン注入装置 SOPHI-400
アルバック販売株式会社

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この製品について

■概要

Max2,400KeVまで対応可能な高エネルギーのイオン注入装置です。

■用途

パワーデバイス等の薄型基板プロセス、IGBTプロセス

■特長

・枚葉式 ・薄Wafer対応 ・パラレルビーム

  • シリーズ

    イオン注入装置 SOPHI-400

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イオン注入装置 SOPHI-400 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 基板サイズ 最大電圧
イオン注入装置 SOPHI-400-品番-SOPHI-400

SOPHI-400

要見積もり

Max200mm

2,400keV

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会社概要

アルバック販売株式会社は、1970年に設立された、真空機器関連の専門商社です。 株式会社アルバック(神奈川県)のグループ会社の1社であり、アルバック社の真空機器の国内販売を担います。販売先は、大手メーカーや官公庁・大学...

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  • 本社所在地: 東京都
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