イオン注入装置 SOPHI-400
アルバック販売株式会社
この製品について
■概要
Max2,400KeVまで対応可能な高エネルギーのイオン注入装置です。■用途
パワーデバイス等の薄型基板プロセス、IGBTプロセス■特長
・枚葉式 ・薄Wafer対応 ・パラレルビーム-
シリーズ
イオン注入装置 SOPHI-400
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取扱企業
アルバック販売株式会社
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カテゴリ
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イオン注入装置 SOPHI-400 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 基板サイズ | 最大電圧 |
|---|---|---|---|---|
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SOPHI-400 |
要見積もり | Max200mm | 2,400keV |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
