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イオン注入装置 SOPHI-30-SOPHI-30
イオン注入装置 SOPHI-30-アルバック販売株式会社

イオン注入装置 SOPHI-30
アルバック販売株式会社

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この製品について

■概要

低加速・高濃度対応のイオン注入装置です。

■用途

パワーデバイス等の薄型基板プロセス、IGBTプロセス

■特長

・枚葉式 ・薄Wafer対応

■非質量分離機 *非質量分離機の対比メリット

1) 低加速・高濃度対応のハイスループットイオン注入装置 2) 従来より約半額の低価格 3) 装置占有面積が従来より1/3のコンパクト設計

  • シリーズ

    イオン注入装置 SOPHI-30

企業レビュー

レビューは全てメトリー経由で実際に見積もりをしたユーザーによるものです

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評判がとても良い

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2025年8月7日にレビュー

フォームを経由し、非常にわかりやすくスムーズなお問い合わせのご対応をいただけました。誠にありがとうございます。

初回返答までの時間・1.11時間

2025年7月28日にレビュー

返信までのタイムラグがありましたが,返信内容は丁寧でした。

初回返答までの時間・69.57時間

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イオン注入装置 SOPHI-30 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 基板サイズ
イオン注入装置 SOPHI-30-品番-SOPHI-30

SOPHI-30

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Max200mm

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使用用途

#半導体製造 #ディスプレイ製造 #パワーデバイス製造 #材料改質

加速エネルギー

低エネルギー型 中エネルギー型 高エネルギー型

ビーム構造

マルチビーム型 スキャン型

特徴

高電流型 高精度型 高真空型 コンパクト型

エネルギー keV

0 - 5 5 - 100 100 - 300 300 - 1,000

最大ビーム電流 μA

0 - 100 100 - 500 500 - 1,000

硬度Hv Hv

0 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 3,500

摩擦係数

0 - 0.1 0.1 - 0.2 0.2 - 0.5

耐熱温度 ℃

300 - 400 400 - 500

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この商品の取り扱い会社情報

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企業レビュー

4.5

会社概要

アルバック販売株式会社は、1970年に設立された、真空機器関連の専門商社です。 株式会社アルバック(神奈川県)のグループ会社の1社であり、アルバック社の真空機器の国内販売を担います。販売先は、大手メーカーや官公庁・大学...

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  • 本社所在地: 東京都
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