CVD装置 Si負極材へのCコート用回転CVD装置 MPCVD-Powder
株式会社マイクロフェーズ
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返答率
100.0%
この製品について
■目的
Siや黒鉛負極粉末試料の表面にカーボン膜をCVDコートするための回転型管状炉CVD装置です。■特徴
・石英炉心管をモーター駆動で回転させ、粉末試料を攪拌させながら、CVD処理を可能にしたCVD装置です。 ・常圧モードでも、減圧モードでも、回転機構が動作可能で、ムラなく、均一なCVD処理、熱処理が実現できます。 ・オプション機能として、パルスガス制御ユニットを追加でき、狭い粒子間に新鮮なガスを効率に交換でき、より高い均一性が得られる。 ・リチウムイオン電池負極材へのカーボンコートや、セラミックス粉末表面へのカーボンコートに最適 ・その他の機能は MPCVD-50 に準じる-
シリーズ
CVD装置 Si負極材へのCコート用回転CVD装置 MPCVD-Powder
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取扱企業
株式会社マイクロフェーズ
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カテゴリ
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CVD装置 Si負極材へのCコート用回転CVD装置 MPCVD-Powder 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 管状炉常用使用温度 | 管状炉適応チューブ外径 | 管状炉温度制御 | 管状炉外形寸法 | 管状炉ブレーカー容量 | 炉心管材質 | 炉心管サイズ | ガス制御 | ガス制御導入ガス種 | ガス制御外形寸法 (ボックス) | 真空計 | 排気ポンプ | 排気ポンプ外形寸法 |
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MPCVD-Powder |
要見積もり | 400~1,000℃ | ~50mmφ | 1ゾーン プログラム付温度調節計 | W550mm×H300mm×D450mm | AC100V 20A 単相50/60Hz | 石英 | OD50mm×ID45mm×L800mm | マスフローコントローラ |
キャリアガス：N2 or Ar 還元ガス：H2 炭化水素ガス：C2H2 or C2H4 or CH4 |
W250mm×H310mm×D450mm | ブルドン管真空計 | ロータリーポンプ | W156mm×H200mm×D300mm |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
