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CVD装置 Si負極材へのCコート用回転CVD装置 MPCVD-Powder-MPCVD-Powder
CVD装置 Si負極材へのCコート用回転CVD装置 MPCVD-Powder-株式会社マイクロフェーズ

CVD装置 Si負極材へのCコート用回転CVD装置 MPCVD-Powder
株式会社マイクロフェーズ

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この製品について

粉体表面へのカーボンコート/各種熱処理などに

■目的

Siや黒鉛負極粉末試料の表面にカーボン膜をCVDコートするための回転型管状炉CVD装置です。

■特徴

・石英炉心管をモーター駆動で回転させ、粉末試料を攪拌させながら、CVD処理を可能にしたCVD装置です。 ・常圧モードでも、減圧モードでも、回転機構が動作可能で、ムラなく、均一なCVD処理、熱処理が実現できます。 ・オプション機能として、パルスガス制御ユニットを追加でき、狭い粒子間に新鮮なガスを効率に交換でき、より高い均一性が得られる。 ・リチウムイオン電池負極材へのカーボンコートや、セラミックス粉末表面へのカーボンコートに最適 ・その他の機能は MPCVD-50 に準じる

  • シリーズ

    CVD装置 Si負極材へのCコート用回転CVD装置 MPCVD-Powder

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CVD装置 Si負極材へのCコート用回転CVD装置 MPCVD-Powder 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 管状炉常用使用温度 管状炉適応チューブ外径 管状炉温度制御 管状炉外形寸法 管状炉ブレーカー容量 炉心管材質 炉心管サイズ ガス制御 ガス制御導入ガス種 ガス制御外形寸法 (ボックス) 真空計 排気ポンプ 排気ポンプ外形寸法
CVD装置 Si負極材へのCコート用回転CVD装置 MPCVD-Powder-品番-MPCVD-Powder

MPCVD-Powder

要見積もり

400~1,000℃

~50mmφ

1ゾーン プログラム付温度調節計

W550mm×H300mm×D450mm

AC100V 20A 単相50/60Hz

石英

OD50mm×ID45mm×L800mm

マスフローコントローラ

キャリアガス:N2 or Ar
還元ガス:H2
炭化水素ガス:C2H2 or C2H4 or CH4

W250mm×H310mm×D450mm

ブルドン管真空計

ロータリーポンプ

W156mm×H200mm×D300mm

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

株式会社マイクロフェーズは、カーボンナノチューブ、ナノ材料、ナノテクノロジーの分野の研究開発と、これらを使った事業の支援を行う会社です。 1999年に設立して、2002年に筑波大学発ベンチャーとして認定されました。さま...

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  • 本社所在地: 茨城県
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