CVD装置 汎用CVD装置 MPCVD-50
株式会社マイクロフェーズ
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100.0%
この製品について
■目的
CNTを合成したり、粉体試料にカーボンを成膜したり、各種CVD成膜するための汎用管状炉タイプ熱CVD装置です。アンモニア、各種CVD反応ガス、昇華系固体前駆体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド (二硫化モリブデンMoS2など) 層状物質の成膜などにも応用できます。■特徴
・液体燃料 (エタノール) 導入系を搭載、炭化水素ガスが設置できない場所でも使用可能。 ・3系統のマスフローガス流量制御系、正確なガス制御が可能。 ・真空排気系が標準装備し、真空炉、雰囲気炉などとしても兼用可能。 ・コンパクトでしっかりとした筐体設計、卓上実験台などに簡単設置。 ・拡張性が高く、あらゆる処理に対応しやすい。-
シリーズ
CVD装置 汎用CVD装置 MPCVD-50
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取扱企業
株式会社マイクロフェーズ
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カテゴリ
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CVD装置 汎用CVD装置 MPCVD-50 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 管状炉常用使用温度 | 管状炉内寸法 | 管状炉温度制御 | 管状炉外形寸法 | 管状炉電気容量 | 炉心管材質 | 炉心管サイズ | ガス制御 | 導入ガス種 | 真空計 | 排気ポンプ | 排気ポンプ外形寸法 | 外形寸法 |
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MPCVD-50 |
要見積もり | 400~1,000℃ | 60mmφ×L260mm | 1ゾーン プログラム付温度調節計 | W300mm×H200mm×D186mm | 700W | 石英 | OD50mm×ID46mm×L900mm | マスフローコントローラ |
キャリアガス：N2 or Ar 還元ガス：H2 炭化水素ガス：C2H2 or C2H4 or CH4 |
ブルドン管真空計 | ロータリーポンプ | W156mm×H200mm×D300mm | W1,100mm×H1,000mm×D500mm |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
