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自動欠陥検査機能を搭載した唯一のウェハーファブ用AFM Park NX-Wafer-NX-Wafer
自動欠陥検査機能を搭載した唯一のウェハーファブ用AFM Park NX-Wafer-パーク・システムズ・ジャパン株式会社

自動欠陥検査機能を搭載した唯一のウェハーファブ用AFM Park NX-Wafer
パーク・システムズ・ジャパン株式会社

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この製品について

Park NX-Waferは、半導体および関連ファブリケーション向けの業界をリードする自動AFM測定システムです。 ウェハーファブの検査と解析、ベアウェハーと基板の自動欠陥検査、およびCMPプロファイル測定を可能にするPark NX-Waferは、サブオングストロームの高さ精度を持つ最高のナノスケール表面分解能を持ち、チップ先端にダメージを与えずにスキャンを重ねることができます。 Park NX-Waferは、自動チップ交換、ライブモニタリング、リファレンスマークなしのターゲットポジショニング、自動解析などの自動化システム機能を備えており、業界最高水準の半導体AFM装置として位置付けられています。

■特徴

・より正確なCMPプロファイル測定を実現する低ノイズ原子間力顕微鏡 ・サブオングストロームの表面粗さを高精度に測定し、チップ間のばらつきを最小限に抑制 ・欠陥イメージングと解析のための全自動AFMソリューション ・自動チップ交換、ロボットウェハーハンドラーを搭載した全自動システム ・300mmウェハーのスキャンに対応

  • シリーズ

    自動欠陥検査機能を搭載した唯一のウェハーファブ用AFM Park NX-Wafer

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自動欠陥検査機能を搭載した唯一のウェハーファブ用AFM Park NX-Wafer 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 電動XYステージ 電動フォーカスステージ 試料厚さ許容範囲 電動Zステージ 全スキャンレンジZクリアランス COGNEXパターン認識 XYスキャナレンジ XYスキャナ分解能 Zスキャナレンジ Zスキャナ分解能 Zスキャナ検出器雑音 ADC DAC CE 床振動ノイズ 音響ノイズ 設備条件 室温 (待機時) 設備条件 室温 (稼働時) 設備条件 湿度 設備条件 床振動レベル 設備条件 音響ノイズ 設備条件 排気系 設備条件 電源 設備条件 総合消費電力 設備条件 グラウンド抵抗 200mmシステムレイアウト 300mmシステムレイアウト
自動欠陥検査機能を搭載した唯一のウェハーファブ用AFM Park NX-Wafer-品番-NX-Wafer

NX-Wafer

要見積もり

200mm : 駆動 275mm×200mm、分解能0.5μm/300mm : 駆動 400mm×300mm、分解能 0.5μm
<再現性<1μm

Z駆動距離 9mm、直上光学系

最大20mm

Z駆動距離 25mm、分解能 0.08μm、再現性<1μm

<2nm、再現性<1nm

パターンアライン分解能1/4ピクセル

100µm×100µm (Large mode) 、50µm×50µm (Medium mode) 、10µm×10µm (Small mode)

0.15nm (Large mode)

15µm (Large mode) 、2µm (Small mode)

0.016nm (Large mode) 、0.002nm (Small mode)

0.03nm, rms (typical)

18チャンネル、4高速 ADCチャンネル (64 MSPS) 、24ビット ADC ( X、Y及び Zスキャナ ポジションセンサー)

17チャンネル、2高速 DAC チャンネル (64 MSPS) 、20ビット DAC ( X、Y及び Zスキャナ ポジションセンサ)

SEMI スタンダード S2/S8

<0.5μm/s (10Hz~200Hz、アクティブ防振台使用)

>20dB低減 (アクースティックエンクロージャー使用)

10℃~40℃

18℃~24℃

30%~60% (結露が無い事)

VC-D基準 (6μm/sec)

65dB以下

真空 : -80kPa、CDA (orN2) : 0.7MPa

208V-240V、単相、15A (最大)

2KW (公称)

100オーム以下

2,732mm (幅) ×1,100mm (奥行) x2,400mm (高) 、約2,110kg (コントロールキャビネット含む) 、天井高 2,500mm以下 ほか

3,486mm (幅) ×1,450mm (奥行) x2,400mm (高) 、約2,950kg (コントロールキャビネット含む) 、天井高 2,500mm以下 ほか

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