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ウェハドライクリーニング装置 WaferClean 2200-WaferClean 2200
ウェハドライクリーニング装置 WaferClean 2200-ブルカージャパン株式会社

ウェハドライクリーニング装置 WaferClean 2200
ブルカージャパン株式会社

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この製品について

■ウエハ向けCO2ドライクリーニング装置

・ウェハ向けCO2精密ドライクリーニングによるパーティクル除去 ・最適化された独自ノズルの採用によりCO₂の流速、粒径、密度コントロールが可能に ・MEMSなどの脆弱部でのパーティクルからラピッドイアーなどの残渣にも対応 ・ケミカルフリープロセスによりウェハ表面のの改質がありません ・研究開発向けマニュアルウェハロード式装置もラインナップ (VersaClean 1400)

  • シリーズ

    ウェハドライクリーニング装置 WaferClean 2200

企業レビュー 5.0

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2025年5月21日にレビュー済み

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当方の状況も鑑み押し付けることなく見積り以外にもカタログ、文章での補足と丁寧にご対応をいただきました。

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ウェハドライクリーニング装置 WaferClean 2200 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜)
ウェハドライクリーニング装置 WaferClean 2200-品番-WaferClean 2200

WaferClean 2200

要見積もり

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半導体洗浄装置をフィルターから探すことができます

対応サイズ インチ

0 - 4 4 - 8 8 - 12

装置寸法 mm

0 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,500 1,500 - 2,000 2,000 - 2,500 2,500 - 3,500

本体重量 kg

0 - 50 50 - 100 100 - 500

電源 V

0 - 100 100 - 200 200 - 250

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この商品の取り扱い会社情報

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企業レビュー

5.0

会社概要

ブルカージャパン株式会社は、高性能科学機器や、分析・診断ソリューションの開発・製造・販売を行っている企業です。 本社所在地は神奈川県横浜市であり、1975年に設立されました。 化学、生物、工業材料の試料に対する分析装置...

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  • 本社所在地: 神奈川県
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