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薄膜コーティング材料 金属スパッタリングターゲット 酸化ニオブ (NbOx) スプレーロータリースパッタリングターゲット-酸化ニオブ (NbOx) スプレーロータリースパッタリングターゲット
薄膜コーティング材料 金属スパッタリングターゲット 酸化ニオブ (NbOx) スプレーロータリースパッタリングターゲット-XI'AN FUNCTION MATERIAL GROUP CO.,LTD

薄膜コーティング材料 金属スパッタリングターゲット 酸化ニオブ (NbOx) スプレーロータリースパッタリングターゲット
XI'AN FUNCTION MATERIAL GROUP CO.,LTD



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この製品について

■応用

低電系ガラスフィルムシステム、薄膜太陽電池電極フィルムシステム、TFT、半導体で主に使用されています。

  • シリーズ

    薄膜コーティング材料 金属スパッタリングターゲット 酸化ニオブ (NbOx) スプレーロータリースパッタリングターゲット

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薄膜コーティング材料 金属スパッタリングターゲット 酸化ニオブ (NbOx) スプレーロータリースパッタリングターゲット 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) CAS 分子式 純度 仕様 EINECS No. 化学式 抵抗率 (20℃) 成形プロセス 密度 不純物含有量 充填方法
薄膜コーティング材料 金属スパッタリングターゲット 酸化ニオブ (NbOx) スプレーロータリースパッタリングターゲット-品番-酸化ニオブ (NbOx) スプレーロータリースパッタリングターゲット

酸化ニオブ (NbOx) スプレーロータリースパッタリングターゲット

要見積もり

12034-59-2

NbOx

99.95%以上

カスタマイズされました

234-809-7

Nb 2 x (x<5)

0.1以下Ω。 CM

スプレーします

> 4.3g / cm3 gt; 95%)

単位:PPM、全不純物含有量≦500ppm

標準輸出木製ケースを用いた真空密封梱包

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使用用途

#ウエハ製造 #エッチング #薄膜形成 #ドーピング #CMP研磨 #半導体製造 #精密機器製造

物質種類

シリコン ゲルマニウム 化合物半導体

形状

ウエハ シングルクリスタル ポリクリスタル

ドーピング種

n型半導体 p型半導体

特殊特性

高耐圧半導体 高周波半導体

厚さ μm

150 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 600 600 - 1,200 1,200 - 1,400

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