フォトリソグラフィ用材料レジスト剥離剤
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この製品について

超微細化する半導体デバイスや、高精細・高機能化が進むフラットパネルディスプレイ。めまぐるしく進展する半導体やフラットパネル製造の世界において、迅速な開発力が必要とされる剥離剤・エッチャント (感光性材料) やレジスト剥離剤などの各種製品を製造しています。またプロセス管理の面においてもお客様への提案力に優れた実績を有するなど、エレクトロニクス業界の発展に貢献しています。

型番
この商品には5種類の型番があります

シリーズ
フォトリソグラフィ用材料レジスト剥離剤

取扱企業
ナガセケムテックス株式会社

カテゴリ

洗浄剤・装置

はく離剤

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フォトリソグラフィ用材料レジスト剥離剤品番5件

フィルター

品番	価格 (税抜)	用途 FPD 半導体	液状水系非水系	使用条件 ℃/分常温~50/1~5 60~120/1~20 80~100/10~20	リンス液水アルコール溶剤	剥離性能ポジ除去 ○ ◎	剥離性能残渣除去 ○ ◎	AL腐食性 ◎ ○	粘度 mPa･s (25℃) 3 6 8 10	法規消防法非該当 4類3石	法規 PRTR 非該当該当
N-327	要見積もり	FPD	水系	常温~50/1~5	水	○	○	◎	8	非該当	非該当
N-342	要見積もり	FPD	水系	常温~50/1~5	水	○	◎	○	10	非該当	該当
N-300	要見積もり	FPD	非水系	60~120/1~20	アルコール	◎	○	◎	10	4類3石	該当
N-530	要見積もり	半導体	非水系	80~100/10~20	溶剤	◎	◎	◎	3	4類3石	該当
N-530HS	要見積もり	半導体	非水系	80~100/10~20	溶剤	◎	◎	◎	6	4類3石	該当