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ウェットプロセス Semi Processing Platform ウェットステーション取扱企業
株式会社インターテック販売カテゴリ
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半導体洗浄装置の製品69点中、注目ランキング上位6点
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次の条件に該当する商品を1件表示しています
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 工程 | メーカー | 仕様 プロセスアプリケーション | 仕様 プロセスコントロール | 仕様 基板材質 | 仕様 膜厚 | 仕様 筐体 | 仕様 寸法 | 仕様 モジュール寸法 | 仕様 オプション |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
Semi Processing Platform |
要見積もり |
洗浄 |
RENA |
・エッチング (シリコン、メタル、オキサイド、ナイトライド等) |
・薬液/オゾン濃度モニター |
シリコン、SiC, GaAs, GaN, InP, Glass, Sappire |
500~2,000μm |
PP、FM4910相当、ステンレス枠 |
幅 2,200mm、高さ 3,600mm (フローボックス含む) |
・ウェハーサイズ 200mm/8”: 2槽: 1,400mm / 3槽: 2,100mm |
・全自動ローダーアンローダーバッファーステーション |
半導体洗浄装置の中で同じ条件の製品
洗浄方式: ウェット
半導体洗浄装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#ウエハ洗浄 #酸化膜除去 #有機物除去 #金属汚染除去 #パーティクル除去 #ドライプロセス #ウエットプロセス #クリーン化管理 #高純度薬液洗浄方式
ウェット ドライ メガソニック スプレー処理形態
バッチ型 シングルウエハ型 連続搬送型特殊機能
ケミカル循環型 ドライインアウト型 プラズマ支援型対応サイズ インチ
0 - 4 4 - 8 8 - 12装置寸法 mm
0 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,500 1,500 - 2,000 2,000 - 2,500 2,500 - 3,500本体重量 kg
0 - 50 100 - 500電源 V
0 - 100 100 - 200 200 - 250
