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ウェットプロセス Advancer セミオートウェットプロセッサー取扱企業
株式会社インターテック販売カテゴリ
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半導体洗浄装置の製品69点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 工程 | メーカー | 仕様 最大固定タンク | 仕様 同時ロット処理数 | 仕様 排気 | 仕様 タンク蓋 | 仕様 フィルター再循環 | 仕様 メガ/超音波 | 仕様 メンテナンスエリア | 仕様 薬液供給方法 | 仕様 一般仕様 シェルタイプ | 仕様 一般仕様 シェル材料 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
Micro FA |
要見積もり |
洗浄 |
RENA |
Single 200mm |
1 |
Back |
No |
No |
No |
Front |
No |
シングルシェルに統合されに設計 |
FM4910 (Halar, CPVD, PVDF) 、ポリプロピレン、ステンレス鋼より選択 |
半導体洗浄装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#ウエハ洗浄 #酸化膜除去 #有機物除去 #金属汚染除去 #パーティクル除去 #ドライプロセス #ウエットプロセス #クリーン化管理 #高純度薬液洗浄方式
ウェット ドライ メガソニック スプレー処理形態
バッチ型 シングルウエハ型 連続搬送型特殊機能
ケミカル循環型 ドライインアウト型 プラズマ支援型対応サイズ インチ
0 - 4 4 - 8 8 - 12装置寸法 mm
0 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,500 1,500 - 2,000 2,000 - 2,500 2,500 - 3,500本体重量 kg
0 - 50 100 - 500電源 V
0 - 100 100 - 200 200 - 250
