高分解能X線回折装置薄膜特性を分析するためのX線回折を使用したインラインモニタリングおよび制御 TFXRD シリーズ TFXRD-300-TFXRD-300

高分解能X線回折装置薄膜特性を分析するためのX線回折を使用したインラインモニタリングおよび制御 TFXRD シリーズ TFXRD-300
株式会社リガク

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この製品について

■300mmウェーハのフルマッピング用X線回折 (XRD) システムTFXRD-300は、大口径ウェーハ上の薄膜の測定を目的とした専用のXRDツールであり、薄膜の厚さ、結晶性、化合物材料の組成比、エピタキシャルウェーハの格子緩和などを測定します。

概要
■選択可能な光学機器を備えた高精度ゴニオメータ全ての薄膜XRDアプリケーションに適したXRDシステムで、300mmウェーハまでのマッピングに対応したXY可動ステージを搭載しています。当システムは、サンプルの損傷がなく状態が保たれることを保証し、追加の実験や分析を問題なく行うことができます。すべての研究開発ニーズに対して最も正確で信頼性の高い結果を提供します。

■ニアファブアプリケーション向けのXRDシステムマッピングツール材料解析の向上、品質管理の強化、および製造プロセスの最適化に使用できます。

■薄膜・正確な厚さと組成
・結晶情報
・応力とひずみ解析
・非破壊特性評価
・多層解析
・先進材料開発

■XRR厚さに特化した専門のシステム薄膜、コーティング、および多層構造の厚さ、密度、および界面粗さを決定します。

■GaAs (004) 、立方晶GaN (002) 、六方晶GaN (0004) 特性評価電子および光電子デバイスでの要求性能を達成するために、結晶方位の精密な分析および材料の成長と加工を制御します。

■特長・全ての薄膜XRDアプリケーションに最適な選択可能な光学機器を備えた最高精度のゴニオメータと、マッピングのためのXY可動ステージ
・効率的な計測速度
・高分解能測定用の入射モノクロメータ
・大型ウェーハの完全なマッピング
・最大300mmウェーハまで測定可能

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
高分解能X線回折装置薄膜特性を分析するためのX線回折を使用したインラインモニタリングおよび制御 TFXRD シリーズ TFXRD-300

取扱企業
株式会社リガク

カテゴリ

アナライザ

X線分析装置

検査装置

X線検査装置

検査装置

非破壊検査装置

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高分解能X線回折装置薄膜特性を分析するためのX線回折を使用したインラインモニタリングおよび制御 TFXRD シリーズ TFXRD-300 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	手法	用途	主要コンポーネント	制御 (PC)	本体寸法	質量	電源	テクノロジー	オプション
	TFXRD-300	要見積もり	X線回折 (XRD) 、ロッキングカーブ (XRC) 、および反射率測定 (XRR)	高精度ゴニオメータと大型ウェーハ (200 mm、300 mm) 用の全マッピングXYステージ	最大300 mmウェーハのフルマッピングXYステージ	外部PC、MS Windows OS、SmartLab Studio IIソフトウェア	約. 1,900 (W) x 2,200 (H) x 1,900 (D) mm	約. 1,600 kg	3Ø、200 V、50/60 Hz、30 A (封入管) または60 A (9 kW回転対陰極)	大型のクレードルを備えた高精度θ-2θ水平ゴニオメータ	PhotonMax高輝度9 kW回転対陰極X線源 Confocal Max-flux 800 W回転対陰極X線源 HyPix-3000高エネルギー分解能2D HPAD検出器